摘要 | 第5-7页 |
Abstract | 第7-8页 |
第1章 绪论 | 第15-31页 |
1.1 半导体光催化的概述 | 第15-19页 |
1.1.1 光催化技术发展历程 | 第15页 |
1.1.2 光催化技术反应机理 | 第15-16页 |
1.1.3 影响光催化反应效率的因素 | 第16-18页 |
1.1.4 光催化性能的提高途径 | 第18-19页 |
1.2 石墨烯及石墨烯基光催化剂概述 | 第19-25页 |
1.2.1 石墨烯的结构与性质 | 第19-21页 |
1.2.2 石墨烯的制备方法 | 第21-23页 |
1.2.3 石墨烯基复合材料的制备 | 第23-24页 |
1.2.4 石墨烯基复合物在光催化方面的应用 | 第24-25页 |
1.3 类石墨g-C_3N_4及类石墨g-C_3N_4系光催化剂概述 | 第25-29页 |
1.3.1 类石墨g-C_3N_4的结构 | 第25-26页 |
1.3.2 类石墨g-C_3N_4的性质 | 第26-27页 |
1.3.3 g-C_3N_4的合成方法 | 第27-28页 |
1.3.4 g-C_3N_4在光催化方面的应用 | 第28-29页 |
1.4 本文选题背景及研究内容 | 第29-31页 |
1.4.1 选题背景 | 第29页 |
1.4.2 研究内容 | 第29-31页 |
第2章 石墨烯/BiOCl_(0.75)Br_(0.25)微球的光催化性能研究 | 第31-46页 |
2.1 前言 | 第31-32页 |
2.2 材料与方法 | 第32-34页 |
2.2.1 实验材料与仪器 | 第32-33页 |
2.2.2 BiOCl_(0.75)Br_(0.25)/石墨烯复合材料的制备 | 第33页 |
2.2.3 光催化剂的表征 | 第33页 |
2.2.4 光催化活性研究 | 第33-34页 |
2.3 结果与讨论 | 第34-39页 |
2.3.1 催化剂晶相结构表征(XRD) | 第34页 |
2.3.2 扫描电镜(FESEM)和透射电镜(TEM) | 第34-35页 |
2.3.3 X射线光电子能谱(XPS) | 第35-36页 |
2.3.4 紫外-可见漫反射光谱( Uv-vis-DRS) | 第36-37页 |
2.3.5 荧光光谱(PL) | 第37-38页 |
2.3.6 比表面积(BET) | 第38-39页 |
2.4 光催化活性分析 | 第39-45页 |
2.4.1 动力学研究 | 第39-40页 |
2.4.2 催化路径研究 | 第40-42页 |
2.4.3 光催化机理研究 | 第42-44页 |
2.4.4 催化剂的稳定性评价 | 第44-45页 |
2.5 本章小结 | 第45-46页 |
第3章 可见光诱导的g-C_3N_4-Sb_2S_3/Sb_4O_5Cl_2复合光催化剂 | 第46-61页 |
3.1 前言 | 第46-47页 |
3.2 材料与方法 | 第47-49页 |
3.2.1 实验材料与仪器 | 第47页 |
3.2.2 g-C_3N_4-Sb_2S_3/Sb_4O_5Cl_2复合材料的合成 | 第47-48页 |
3.2.3 光催化剂的表征 | 第48-49页 |
3.2.4 光催化活性研究 | 第49页 |
3.3 结果与讨论 | 第49-56页 |
3.3.1 催化剂晶相结构表征(XRD) | 第49-50页 |
3.3.2 扫描电子显微镜(TM3000) | 第50-51页 |
3.3.3 X射线光电子能谱(XPS) | 第51-52页 |
3.3.4 紫外-可见漫反射光谱( Uv-vis-DRS) | 第52-54页 |
3.3.5 荧光光谱(PL) | 第54-55页 |
3.3.6 比表面积(BET) | 第55-56页 |
3.4 材料的光催化性能 | 第56-60页 |
3.4.1 光催化机理研究 | 第57-59页 |
3.4.2 催化剂的稳定性评价 | 第59-60页 |
3.5 本章小结 | 第60-61页 |
第4章 结论与展望 | 第61-63页 |
4.1 结论 | 第61页 |
4.2 展望 | 第61-63页 |
参考文献 | 第63-72页 |
附录A 攻读硕士学位期间发表的学术论文目录 | 第72-73页 |
附录B 攻读学位期间所申请的专利目录 | 第73-74页 |
致谢 | 第74页 |