| 摘要 | 第7-10页 |
| Abstract | 第10-12页 |
| 1 文献综述 | 第14-34页 |
| 1.1 研究背景 | 第14-15页 |
| 1.2 低温胁迫对植物生长的影响 | 第15-16页 |
| 1.3 低温胁迫对植物光合作用的影响 | 第16-18页 |
| 1.3.1 低温直接影响了植物光合机构的结构和活性 | 第16-18页 |
| 1.3.2 低温胁迫对植物光合作用的间接影响 | 第18页 |
| 1.4 低温对光系统活性的影响 | 第18-23页 |
| 1.4.1 低温胁迫对植物PSII活性的影响 | 第19-20页 |
| 1.4.2 低温胁迫对植物PSI活性的影响 | 第20-22页 |
| 1.4.3 光抑制解除后光系统活性的恢复 | 第22-23页 |
| 1.5 低温胁迫下的光破坏防御机制 | 第23-26页 |
| 1.5.1 减少光能的吸收 | 第24页 |
| 1.5.2 增加光能的利用 | 第24-26页 |
| 1.5.3 促进光能耗散 | 第26页 |
| 1.6 围绕PSI的循环式电子传递 | 第26-27页 |
| 1.7 跨类囊体膜电化学质子梯度 | 第27-28页 |
| 1.8 热耗散 | 第28-32页 |
| 1.8.1 依赖跨类囊体膜内外质子梯度的热耗散-qE | 第29-30页 |
| 1.8.2 依赖状态转换的热耗散-qT | 第30-31页 |
| 1.8.3 依赖光抑制的热耗散-qI | 第31-32页 |
| 1.9 研究的目的及意义 | 第32-34页 |
| 2 实验材料及方法 | 第34-37页 |
| 2.1 材料培养及处理 | 第34-35页 |
| 2.1.1 黄瓜培养方法 | 第34页 |
| 2.1.2 中亚滨藜培养方法 | 第34页 |
| 2.1.3 材料处理 | 第34-35页 |
| 2.2 实验方法 | 第35-36页 |
| 2.2.1 NPQ三组分及光下叶绿素荧光的测定 | 第35页 |
| 2.2.2 快速叶绿素a荧光诱导动力学曲线测定及JIP-test分析 | 第35-36页 |
| 2.2.3 PSI活性的测定 | 第36页 |
| 2.2.4 光合参数的测定 | 第36页 |
| 2.2.5 低温临界温度的确定 | 第36页 |
| 2.3 数据处理 | 第36-37页 |
| 3 实验结果 | 第37-64页 |
| 3.1 黄瓜和中亚滨藜的低温临界温度 | 第37-42页 |
| 3.1.1 黄瓜低温临界温度 | 第37-39页 |
| 3.1.2 中亚滨藜低温临界温度 | 第39-40页 |
| 3.1.3 黄瓜和中亚滨藜低温临界温度比较 | 第40-42页 |
| 3.2 低温光胁迫对黄瓜叶片的伤害及低温光胁迫解除后的恢复 | 第42-45页 |
| 3.2.1 低温光胁迫对黄瓜叶片的伤害 | 第42-43页 |
| 3.2.2 低温光胁迫解除后黄瓜叶片光系统活性的恢复 | 第43-45页 |
| 3.3 低温光胁迫对植物光系统伤害机理探究 | 第45-52页 |
| 3.3.1 中亚滨藜光系统活性在低温光胁迫下的伤害及在室温下的恢复 | 第45-46页 |
| 3.3.2 低温光胁迫下中亚滨藜对过剩光能的热耗散方式 | 第46-49页 |
| 3.3.3 低温光胁迫下黄瓜叶片对过剩光能的耗散方式 | 第49-52页 |
| 3.4 不同电子传递链抑制剂对黄瓜低温光胁迫下光系统的保护 | 第52-64页 |
| 3.4.1 DCMU对黄瓜叶片低温光胁迫下光系统的保护 | 第52-55页 |
| 3.4.2 MV对黄瓜叶片低温光胁迫下光系统的保护 | 第55-58页 |
| 3.4.3 DBMIB对黄瓜叶片低温光胁迫下光系统的保护 | 第58-64页 |
| 4 讨论 | 第64-68页 |
| 4.1 低温光胁迫下PSI和PSII活性的变化 | 第64-65页 |
| 4.2 低温光胁迫逆境解除后黄瓜叶片PSI和PSII活性的恢复 | 第65-66页 |
| 4.3 低温光胁迫下两种植物对过剩光能耗散方式比较 | 第66-67页 |
| 4.4 低温光胁迫下三种电子传递链抑制剂对过黄瓜叶片光系统的保护 | 第67-68页 |
| 5 总结 | 第68-69页 |
| 参考文献 | 第69-79页 |
| 致谢 | 第79-80页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第80页 |
