| 摘要 | 第6-7页 |
| ABSTRACT | 第7页 |
| 1 绪论 | 第13-22页 |
| 1.1 选题背景及意义 | 第13-15页 |
| 1.1.1 选题背景 | 第13-14页 |
| 1.1.2 选题意义 | 第14-15页 |
| 1.2 研究内容和方法 | 第15-20页 |
| 1.2.1 研究对象 | 第15-16页 |
| 1.2.2 研究内容 | 第16-17页 |
| 1.2.3 研究方法 | 第17-20页 |
| 1.3 研究框架和技术路线 | 第20页 |
| 1.4 特色与创新 | 第20-22页 |
| 2 国内外研究进展及评述 | 第22-28页 |
| 2.1 国外相关研究进展 | 第22-24页 |
| 2.2 国内相关研究进展 | 第24-26页 |
| 2.3 国内外研究进展评述 | 第26-28页 |
| 3 美国PCT专利增长总体态势及分布特征 | 第28-40页 |
| 3.1 PCT专利增长的总体态势 | 第28-34页 |
| 3.1.1 总体呈增长态势 | 第28页 |
| 3.1.2 一级领域中仪器领域增长速度最快 | 第28-30页 |
| 3.1.3 二级领域中计算机技术领域数量规模最大 | 第30-34页 |
| 3.2 专利分布的空间特征 | 第34-39页 |
| 3.2.1 仪器、化学和机械工程领域呈"两点一面"的分布特征 | 第34-37页 |
| 3.2.2 电气工程和其他领域呈现"一枝独秀"的分布特征 | 第37-39页 |
| 3.3 本章小结 | 第39-40页 |
| 4 美国PCT专利空间集聚及演化的差异 | 第40-65页 |
| 4.1 研究方法 | 第40-42页 |
| 4.1.1 空间集聚程度的测算方法 | 第40-41页 |
| 4.1.2 探索性空间数据分析方法 | 第41-42页 |
| 4.2 PCT专利在空间上高度集聚 | 第42-53页 |
| 4.2.1 一级领域中电气工程的集聚程度最强 | 第42-43页 |
| 4.2.2 二级领域集聚排名随时间更替而波动 | 第43-53页 |
| 4.3 PCT专利空间集聚的演化特征 | 第53-63页 |
| 4.3.1 技术领域专利在空间上相互关联 | 第53-54页 |
| 4.3.2 仪器和化学领域变化稳定,呈现时空惯性 | 第54-58页 |
| 4.3.3 电气工程、机械工程及其他领域极化趋势加剧 | 第58-63页 |
| 4.4 本章小结 | 第63-65页 |
| 5 美国PCT专利空间分异的内部依赖及其与产业的关系 | 第65-75页 |
| 5.1 二级子领域的空间集聚影响着一级领域的分布 | 第65-69页 |
| 5.1.1 地理联系率的测算 | 第65页 |
| 5.1.2 技术领域与其二级子领域的地理联系 | 第65-69页 |
| 5.2 产业空间布局影响着专利的地理分布 | 第69-74页 |
| 5.2.1 专利与产业产值呈正相关关系 | 第70-72页 |
| 5.2.2 二者空间集聚的匹配程度较高 | 第72-74页 |
| 5.3 本章小结 | 第74-75页 |
| 6 基于PCT专利的区域优势领域及相关产业发展建议 | 第75-89页 |
| 6.1 基于PCT专利产出的区域优势领域识别 | 第75-80页 |
| 6.1.1 显性技术比较优势指数 | 第75页 |
| 6.1.2 区域优势技术领域的差异显著 | 第75-80页 |
| 6.2 基于区域优势领域的相关产业发展 | 第80-87页 |
| 6.2.1 显性技术比较优势领域的测算结果 | 第80-81页 |
| 6.2.2 区域主要产业的发展建议 | 第81-87页 |
| 6.3 本章小结 | 第87-89页 |
| 7 结论与启示 | 第89-93页 |
| 7.1 基本结论与讨论 | 第89-91页 |
| 7.2 对中国的启示 | 第91-92页 |
| 7.3 研究不足与展望 | 第92-93页 |
| 参考文献 | 第93-99页 |
| 后记 | 第99-100页 |
