| 摘要 | 第6-9页 |
| Abstract | 第9-12页 |
| 第一章 绪论 | 第17-39页 |
| 1.1 水污染概况 | 第17-18页 |
| 1.2 光催化技术 | 第18-23页 |
| 1.2.1 光催化反应的基本原理 | 第18-19页 |
| 1.2.2 光催化技术的应用领域 | 第19-21页 |
| 1.2.3 半导体光催化材料 | 第21-23页 |
| 1.3 新型光催化材料研究现状 | 第23-31页 |
| 1.3.1 卤化银纳米光催化材料的制备及其应用 | 第23-26页 |
| 1.3.2 过渡金属硫化物纳米光催化材料的制备及其应用 | 第26-30页 |
| 1.3.3 非金属纳米光催化材料的制备及其应用 | 第30-31页 |
| 1.4 氮化碳研究进展 | 第31-36页 |
| 1.4.1 氮化碳材料概述 | 第31-32页 |
| 1.4.2 石墨相氮化碳的结构及性能 | 第32-33页 |
| 1.4.3 石墨相氮化碳的制备 | 第33-34页 |
| 1.4.4 石墨相氮化碳的改性研究 | 第34-36页 |
| 1.5 本文的选题思路及主要研究内容 | 第36-39页 |
| 第二章 Ag/AgCl/g-C_3N_4纳米复合材料的构筑及光催化性能研究 | 第39-53页 |
| 2.1 引言 | 第39-40页 |
| 2.2 仪器与方法 | 第40-42页 |
| 2.2.1 实验试剂及设备 | 第40-41页 |
| 2.2.2 光催化材料的制备 | 第41页 |
| 2.2.3 光催化材料的表征 | 第41-42页 |
| 2.2.4 光催化活性实验 | 第42页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第42-52页 |
| 2.3.1 X射线衍射(XRD)分析 | 第42-43页 |
| 2.3.2 透射电镜(TEM)分析 | 第43-44页 |
| 2.3.3 X射线光电子能谱(XPS)分析 | 第44-47页 |
| 2.3.4 红外光谱(FT-IR)和紫外漫反射光谱(DRS)分析 | 第47-48页 |
| 2.3.5 光催化降解甲基橙的研究 | 第48-49页 |
| 2.3.6 动力学和稳定性分析 | 第49-51页 |
| 2.3.7 光催化机理研究 | 第51-52页 |
| 2.4 本章小结 | 第52-53页 |
| 第三章 AgI/g-C_3N_4纳米复合材料的构筑及光催化性能研究 | 第53-70页 |
| 3.1 引言 | 第53-54页 |
| 3.2 仪器与方法 | 第54-57页 |
| 3.2.1 实验试剂及设备 | 第54-55页 |
| 3.2.2 光催化材料的制备 | 第55页 |
| 3.2.3 光催化材料的表征 | 第55-56页 |
| 3.2.4 光催化活性实验 | 第56-57页 |
| 3.2.5 电化学性能测试 | 第57页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第57-69页 |
| 3.3.1 X射线衍射(XRD)分析 | 第57-58页 |
| 3.3.2 透射电镜(TEM)分析 | 第58-59页 |
| 3.3.3 X射线光电子能谱(XPS)分析 | 第59-61页 |
| 3.3.4 红外光谱(FT-IR)和紫外漫反射光谱(DRS)分析 | 第61-62页 |
| 3.3.5 光致发光光谱(PL)分析 | 第62-63页 |
| 3.3.6 光电化学性能分析 | 第63-64页 |
| 3.3.7 光催化降解甲基橙和四氯酚的研究 | 第64-66页 |
| 3.3.8 动力学和稳定性分析 | 第66-67页 |
| 3.3.9 光催化机理研究 | 第67-69页 |
| 3.4 本章小结 | 第69-70页 |
| 第四章 二维类石墨烯型氮化碳、三维氮化碳水凝胶的构筑及光催化性能研究 | 第70-97页 |
| 4.1 引言 | 第70-71页 |
| 4.2 仪器与方法 | 第71-75页 |
| 4.2.1 实验试剂及设备 | 第71-72页 |
| 4.2.2 光催化材料的制备 | 第72-73页 |
| 4.2.3 光催化材料的表征 | 第73页 |
| 4.2.4 光催化活性实验 | 第73-74页 |
| 4.2.5 电化学性能测试 | 第74-75页 |
| 4.3 二维GL-C_3N_4的构筑及光催化性能研究 | 第75-88页 |
| 4.3.1 二维GL-C_3N_4形成的机理 | 第75页 |
| 4.3.2 透射电镜(TEM)和原子力显微镜(AFM)分析 | 第75-77页 |
| 4.3.3 X射线衍射(XRD)分析 | 第77-78页 |
| 4.3.4 X射线光电子能谱(XPS)分析 | 第78-80页 |
| 4.3.5 红外光谱(FT-IR)和紫外漫反射光谱(DRS)分析 | 第80-81页 |
| 4.3.6 光电化学性能分析 | 第81-83页 |
| 4.3.7 光催化降解甲基橙和亚甲基蓝的研究 | 第83-84页 |
| 4.3.8 动力学和稳定性分析 | 第84-86页 |
| 4.3.9 比表面积(BET)分析 | 第86-87页 |
| 4.3.10 光催化机理研究 | 第87-88页 |
| 4.4 三维g-C_3N_4水凝胶的构筑及光催化性能研究 | 第88-95页 |
| 4.4.1 三维g-C_3N_4水凝胶形成的机理 | 第88-89页 |
| 4.4.2 扫描电镜(SEM)和透射电镜(TEM)分析 | 第89-90页 |
| 4.4.3 X射线衍射(XRD)分析 | 第90-91页 |
| 4.4.4 红外光谱(FT-IR)分析 | 第91-92页 |
| 4.4.5 紫外漫反射光谱(DRS)和光致发光光谱(PL)分析 | 第92-93页 |
| 4.4.6 理论计算分析 | 第93-94页 |
| 4.4.7 光催化降解甲基橙的研究 | 第94-95页 |
| 4.5 本章小结 | 第95-97页 |
| 第五章 ZnS/类石墨烯型C_3N_4纳米复合材料的构筑及光催化性能研究 | 第97-121页 |
| 5.1 引言 | 第97-98页 |
| 5.2 仪器与方法 | 第98-102页 |
| 5.2.1 实验试剂及设备 | 第98-99页 |
| 5.2.2 光催化材料的制备 | 第99-100页 |
| 5.2.3 光催化材料的表征 | 第100-101页 |
| 5.2.4 光催化活性实验 | 第101页 |
| 5.2.5 电化学性能测试 | 第101-102页 |
| 5.3 结果与讨论 | 第102-119页 |
| 5.3.1 X射线衍射(XRD)分析 | 第102-103页 |
| 5.3.2 扫描电镜(SEM)和透射电镜(TEM)分析 | 第103-104页 |
| 5.3.3 X射线光电子能谱(XPS)分析 | 第104-106页 |
| 5.3.4 红外光谱(FT-IR)和紫外漫反射光谱(DRS)分析 | 第106-108页 |
| 5.3.5 光致发光光谱(PL)分析 | 第108-109页 |
| 5.3.6 光电化学性能分析 | 第109-111页 |
| 5.3.7 光催化降解甲基橙和四环素的研究 | 第111-113页 |
| 5.3.8 动力学和稳定性分析 | 第113-115页 |
| 5.3.9 比表面积(BET)分析 | 第115-116页 |
| 5.3.10 光催化机理研究 | 第116-119页 |
| 5.4 本章小结 | 第119-121页 |
| 第六章 类石墨烯型MoS_2/C_3N_4纳米复合材料的构筑及光催化性能研究 | 第121-140页 |
| 6.1 引言 | 第121-122页 |
| 6.2 仪器与方法 | 第122-126页 |
| 6.2.1 实验试剂及设备 | 第122-123页 |
| 6.2.2 光催化材料的制备 | 第123-124页 |
| 6.2.3 光催化材料的表征 | 第124-125页 |
| 6.2.4 光催化活性实验 | 第125页 |
| 6.2.5 电化学性能测试 | 第125-126页 |
| 6.3 结果与讨论 | 第126-139页 |
| 6.3.1 X射线衍射(XRD)分析 | 第126页 |
| 6.3.2 透射电镜(TEM)分析 | 第126-128页 |
| 6.3.3 X射线光电子能谱(XPS)分析 | 第128-130页 |
| 6.3.4 红外光谱(FT-IR)和紫外漫反射光谱(DRS)分析 | 第130-131页 |
| 6.3.5 光电化学性能分析 | 第131-133页 |
| 6.3.6 光催化降解甲基橙的研究 | 第133-134页 |
| 6.3.7 动力学和稳定性分析 | 第134-136页 |
| 6.3.8 光催化机理研究 | 第136-139页 |
| 6.4 本章小结 | 第139-140页 |
| 第七章 结论与展望 | 第140-144页 |
| 7.1 结论 | 第140-142页 |
| 7.2 创新点 | 第142-143页 |
| 7.3 展望 | 第143-144页 |
| 参考文献 | 第144-162页 |
| 攻读博士学位期间取得的成果 | 第162-167页 |
| 致谢 | 第167页 |
