基于物理气相沉积的高精度位相型CGH制备方法研究
| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第11-19页 |
| 1.1 课题研究背景及意义 | 第11-12页 |
| 1.2 常用的CGH及制备方法 | 第12-15页 |
| 1.3 相关领域研究现状 | 第15-18页 |
| 1.3.1 CGH研究现状 | 第15-16页 |
| 1.3.2 激光直写光刻技术研究现状 | 第16-17页 |
| 1.3.3 物理气相沉积技术研究现状 | 第17-18页 |
| 1.4 论文主要研究内容 | 第18-19页 |
| 第2章 基于物理气相沉积的位相型CGH误差理论 | 第19-31页 |
| 2.1 CGH基本理论 | 第19-22页 |
| 2.1.1 传统的光学全息 | 第19-21页 |
| 2.1.2 光学检测的计算全息 | 第21-22页 |
| 2.2 CGH误差理论模型 | 第22-26页 |
| 2.2.1 基于菲涅尔波带片的CGH模型 | 第22-25页 |
| 2.2.2 基于菲涅尔波带片的CGH误差理论 | 第25-26页 |
| 2.3 波前误差模拟 | 第26-28页 |
| 2.4 衍射效率模拟 | 第28-30页 |
| 2.5 本章小结 | 第30-31页 |
| 第3章 激光直写机床误差影响下CGH位相分析 | 第31-53页 |
| 3.1 机床误差来源与理论基础 | 第31-36页 |
| 3.1.1 导轨正交性误差 | 第33-34页 |
| 3.1.2 载物平台倾斜 | 第34页 |
| 3.1.3 加工导轨倾斜 | 第34页 |
| 3.1.4 导轨定位误差 | 第34-35页 |
| 3.1.5 多种情况综合 | 第35-36页 |
| 3.1.6 激光直写机床设备主要误差 | 第36页 |
| 3.2 机床误差对CGH检测的影响 | 第36-40页 |
| 3.2.1 无机床误差时CGH位相 | 第37-39页 |
| 3.2.2 有机床误差时CGH位相 | 第39-40页 |
| 3.3 机床误差模拟 | 第40-48页 |
| 3.3.1 导轨正交性误差 | 第40-43页 |
| 3.3.2 载物平台倾斜 | 第43-45页 |
| 3.3.3 加工导轨倾斜 | 第45-46页 |
| 3.3.4 导轨定位误差 | 第46-48页 |
| 3.4 误差验证实验 | 第48-51页 |
| 3.5 本章小结 | 第51-53页 |
| 第4章 基于物理气相沉积的位相型CGH制备 | 第53-73页 |
| 4.1 磁控溅射沉积 | 第53-59页 |
| 4.1.1 磁控溅射原理 | 第54-55页 |
| 4.1.2 膜层厚度定标 | 第55-56页 |
| 4.1.3 磁控溅射精度研究 | 第56-59页 |
| 4.2 物理气相沉积制备位相型 | 第59-67页 |
| 4.2.1 物理气相沉积制备位相型流程 | 第59-61页 |
| 4.2.2 制备方法研究 | 第61-65页 |
| 4.2.3 位相型CGH制备 | 第65-67页 |
| 4.3 位相型CGH检测 | 第67-72页 |
| 4.3.1 精度检测 | 第67-69页 |
| 4.3.2 CGH误差分析 | 第69-70页 |
| 4.3.3 衍射效率检验 | 第70-72页 |
| 4.4 本章小结 | 第72-73页 |
| 第5章 总结与展望 | 第73-75页 |
| 5.1 本文的研究成果与创新点 | 第73页 |
| 5.2 研究方向展望 | 第73-75页 |
| 参考文献 | 第75-81页 |
| 在学期间学术成果情况 | 第81-82页 |
| 指导教师及作者简介 | 第82-83页 |
| 致谢 | 第83页 |
