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有机薄膜晶体管栅绝缘层的研究

摘要第1-5页
ABSTRACT第5-8页
第一章 绪论第8-18页
   ·有机薄膜晶体管的研究现状与应用第8-10页
   ·有机薄膜晶体管的基本知识第10-13页
     ·有机薄膜晶体管的结构第10-11页
     ·有机薄膜晶体管栅绝缘层制备的发展情况第11页
     ·有机薄膜晶体管的工作机理与主要工作性能参数第11-13页
   ·绝缘层的漏电机理第13-16页
     ·P-F(普洱-弗朗克)效应第13-14页
     ·肖特基发射效应第14-15页
     ·空间电荷限制电流效应第15-16页
   ·本课题的创新点与主要工作第16-18页
第二章 栅绝缘层的制备及性能测量第18-24页
   ·栅绝缘层的制备技术第18-21页
   ·薄膜的测试技术第21-24页
     ·奥林巴斯光学显微镜测试技术第21页
     ·台阶测试技术第21-22页
     ·薄膜表面形貌的测试技术第22-23页
     ·薄膜电学性能的检测技术第23-24页
第三章 PMMA绝缘层性能的研究与改善第24-34页
   ·ITO电极的修饰与PMMA薄膜的制备第24-25页
   ·苯膦酸修饰对ITO电极表面特征的影响第25-27页
   ·PMMA薄膜的研究第27-30页
     ·ITO电极修饰对PMMA表面形貌的影响第27-29页
     ·ITO/PMMA/Al结构的电学特性研究第29-30页
   ·不同分子量PMMA薄膜漏电机理的研究第30-33页
   ·小结第33-34页
第四章 PVP绝缘层性能的研究与改善第34-44页
   ·PVP薄膜的制备第34-35页
   ·ITO电极修饰对PVP薄膜的影响第35-37页
     ·ITO电极修饰对PVP薄膜表面形貌的影响第35-36页
     ·ITO电极修饰对PVP薄膜电学性能的影响第36-37页
   ·不同交联剂质量分数对PVP绝缘膜的影响第37-43页
     ·不同交联剂质量分数对PVP绝缘层表面形貌的影响第38-40页
     ·不同交联剂质量分数对PVP绝缘层电学性能的影响第40页
     ·不同交联剂质量分数PVP绝缘层的漏电机理第40-42页
     ·不同交联剂质量分数PVP绝缘层的电容特性第42-43页
   ·小结第43-44页
结论第44-46页
参考文献第46-50页
攻读学位期间所取得的相关科研成果第50-52页
致谢第52页

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