有机薄膜晶体管栅绝缘层的研究
摘要 | 第1-5页 |
ABSTRACT | 第5-8页 |
第一章 绪论 | 第8-18页 |
·有机薄膜晶体管的研究现状与应用 | 第8-10页 |
·有机薄膜晶体管的基本知识 | 第10-13页 |
·有机薄膜晶体管的结构 | 第10-11页 |
·有机薄膜晶体管栅绝缘层制备的发展情况 | 第11页 |
·有机薄膜晶体管的工作机理与主要工作性能参数 | 第11-13页 |
·绝缘层的漏电机理 | 第13-16页 |
·P-F(普洱-弗朗克)效应 | 第13-14页 |
·肖特基发射效应 | 第14-15页 |
·空间电荷限制电流效应 | 第15-16页 |
·本课题的创新点与主要工作 | 第16-18页 |
第二章 栅绝缘层的制备及性能测量 | 第18-24页 |
·栅绝缘层的制备技术 | 第18-21页 |
·薄膜的测试技术 | 第21-24页 |
·奥林巴斯光学显微镜测试技术 | 第21页 |
·台阶测试技术 | 第21-22页 |
·薄膜表面形貌的测试技术 | 第22-23页 |
·薄膜电学性能的检测技术 | 第23-24页 |
第三章 PMMA绝缘层性能的研究与改善 | 第24-34页 |
·ITO电极的修饰与PMMA薄膜的制备 | 第24-25页 |
·苯膦酸修饰对ITO电极表面特征的影响 | 第25-27页 |
·PMMA薄膜的研究 | 第27-30页 |
·ITO电极修饰对PMMA表面形貌的影响 | 第27-29页 |
·ITO/PMMA/Al结构的电学特性研究 | 第29-30页 |
·不同分子量PMMA薄膜漏电机理的研究 | 第30-33页 |
·小结 | 第33-34页 |
第四章 PVP绝缘层性能的研究与改善 | 第34-44页 |
·PVP薄膜的制备 | 第34-35页 |
·ITO电极修饰对PVP薄膜的影响 | 第35-37页 |
·ITO电极修饰对PVP薄膜表面形貌的影响 | 第35-36页 |
·ITO电极修饰对PVP薄膜电学性能的影响 | 第36-37页 |
·不同交联剂质量分数对PVP绝缘膜的影响 | 第37-43页 |
·不同交联剂质量分数对PVP绝缘层表面形貌的影响 | 第38-40页 |
·不同交联剂质量分数对PVP绝缘层电学性能的影响 | 第40页 |
·不同交联剂质量分数PVP绝缘层的漏电机理 | 第40-42页 |
·不同交联剂质量分数PVP绝缘层的电容特性 | 第42-43页 |
·小结 | 第43-44页 |
结论 | 第44-46页 |
参考文献 | 第46-50页 |
攻读学位期间所取得的相关科研成果 | 第50-52页 |
致谢 | 第52页 |