蓝宝石基底激光薄膜的设计与制备
| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-7页 |
| 1 绪论 | 第7-12页 |
| ·研究背景及意义 | 第7-9页 |
| ·国内外研究现状 | 第9-10页 |
| ·本文的主要研究工作 | 第10-11页 |
| ·本课题的研究路线 | 第10页 |
| ·本文的研究内容 | 第10-11页 |
| ·本章小结 | 第11-12页 |
| 2 激光损伤机理及特性检测 | 第12-21页 |
| ·损伤机理 | 第12页 |
| ·宏观机制 | 第12-13页 |
| ·本征吸收 | 第12-13页 |
| ·缺陷吸收 | 第13页 |
| ·微观机制 | 第13-14页 |
| ·电子崩离化 | 第13-14页 |
| ·多光子离化 | 第14页 |
| ·薄膜激光损伤测试技术 | 第14-16页 |
| ·损伤阈值测试方法 | 第14-15页 |
| ·激光损伤特性测试平台 | 第15-16页 |
| ·薄膜光学常数的测量 | 第16-18页 |
| ·薄膜透过率和反射率的测量 | 第18-20页 |
| ·本章小结 | 第20-21页 |
| 3 材料的选取与膜系设计 | 第21-38页 |
| ·激光薄膜材料优选 | 第21-23页 |
| ·薄膜材料的基本性质 | 第23-24页 |
| ·单层薄膜的制备与光学性能 | 第24-26页 |
| ·SiO_2的光学常数 | 第24-25页 |
| ·HfO_2的光学常数 | 第25-26页 |
| ·薄膜设计理论 | 第26-32页 |
| ·光学薄膜光学特性 | 第28-32页 |
| ·光学薄膜驻波场理论 | 第32页 |
| ·膜系设计 | 第32-36页 |
| ·本章小结 | 第36-38页 |
| 4 减反膜的制备及激光损伤测试 | 第38-48页 |
| ·热蒸发技术 | 第38-41页 |
| ·镀膜设备 | 第38-40页 |
| ·薄膜制备 | 第40-41页 |
| ·制备工艺 | 第41-43页 |
| ·3～5μm减反射薄膜光学特性研究 | 第43-44页 |
| ·激光损伤测试 | 第44-47页 |
| ·损伤阈值 | 第44页 |
| ·激光预处理 | 第44-46页 |
| ·损伤形貌 | 第46-47页 |
| ·本章小结 | 第47-48页 |
| 5 结论 | 第48-51页 |
| ·结论 | 第48页 |
| ·展望 | 第48-51页 |
| 参考文献 | 第51-54页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第54-55页 |
| 致谢 | 第55-57页 |
