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半导体纳米材料生长机制及成核理论研究

摘要第1-7页
ABSTRACT第7-13页
第1章 绪论第13-22页
   ·研究背景和意义第13-15页
   ·半导体纳米材料研究现状及应用第15-17页
   ·论文的结构安排第17-19页
 参考文献第19-22页
第2章 成核理论概述第22-35页
   ·引言第22-23页
   ·表面生长基本过程第23-24页
   ·薄膜生长理论模型第24-26页
   ·成核热力学第26-31页
     ·体相中均匀成核第27-29页
     ·衬底上非均匀成核第29-31页
   ·成核速率第31-32页
   ·本章小结第32-33页
 参考文献第33-35页
第3章 倾斜纳米线的生长机制第35-55页
   ·引言第35-37页
   ·理论模型第37-45页
   ·生长实验第45-46页
   ·结果和讨论第46-49页
   ·本章小结第49-50页
 参考文献第50-55页
第4章 异质生长纳米结构弹性应变能和塑性应变能的解析解研究第55-74页
   ·引言第55-56页
   ·位错的概念第56-57页
   ·弹性应变能量模型第57-60页
   ·理论建模第60-64页
   ·结果与讨论第64-70页
   ·本章小结第70-71页
 参考文献第71-74页
第5章 三维纳米结构应力驱动成核理论第74-91页
   ·引言第74-75页
   ·成核势垒第75-79页
   ·生长模式第79-83页
   ·晶体结构第83-84页
   ·本章小结第84-86页
 参考文献第86-91页
第6章 量子点在台阶衬底的成核理论第91-116页
   ·引言第91页
   ·衬底平均表面能理论模型第91-97页
     ·理论公式第92-94页
     ·结果与讨论第94-97页
   ·台阶表面能理论模型第97-102页
     ·理论公式第97-100页
     ·结果与讨论第100-102页
   ·Ge量子点在Si(001)台阶衬底的成核模型第102-110页
     ·成核模型第103-107页
     ·结果与讨论第107-110页
   ·本章小结第110-112页
 参考文献第112-116页
致谢第116-118页
攻读博士学位期间发表的学术论文第118-119页

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