氧化钨电致变色薄膜的研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-7页 |
| 目录 | 第7-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-15页 |
| ·前言 | 第9-13页 |
| ·本文的章节安排和主要工作 | 第13-15页 |
| 第2章 文献综述 | 第15-38页 |
| ·电致变色发展历史 | 第15页 |
| ·电致变色材料种类 | 第15-17页 |
| ·WO_3电致变色薄膜的研究现状 | 第17-20页 |
| ·电致变色器件的结构 | 第20-22页 |
| ·透明导电层 | 第21页 |
| ·电致变色层 | 第21页 |
| ·对电极层 | 第21-22页 |
| ·电解质层 | 第22页 |
| ·电致变色材料的变色机理 | 第22-25页 |
| ·各种制备方法及其比较 | 第25-28页 |
| ·制备方法简介 | 第25-27页 |
| ·制备方法优劣比较 | 第27-28页 |
| ·磁控溅射及反应磁控溅射 | 第28-36页 |
| ·迟滞效应 | 第32-35页 |
| ·电弧放电 | 第35页 |
| ·阳极消失 | 第35-36页 |
| ·薄膜微观结构 | 第36-37页 |
| ·本章小结 | 第37-38页 |
| 第3章 实验过程 | 第38-47页 |
| ·研究方法与流程 | 第38-39页 |
| ·实验设备 | 第39-44页 |
| ·镀膜设备 | 第39-41页 |
| ·分析仪器 | 第41-44页 |
| ·基片清洗 | 第44-45页 |
| ·实验步骤与参数 | 第45-46页 |
| ·实验步骤 | 第45页 |
| ·直流溅射实验参数 | 第45-46页 |
| ·本章小结 | 第46-47页 |
| 第4章 实验结果与讨论 | 第47-70页 |
| ·成膜速率的影响因素 | 第47-49页 |
| ·氧气分压对WO_3薄膜的影响 | 第49-53页 |
| ·退火对薄膜的影响 | 第53-60页 |
| ·退火处理前 | 第53-56页 |
| ·退火处理后 | 第56-60页 |
| ·电压对薄膜的影响 | 第60-62页 |
| ·靶基距对薄膜的影响 | 第62-68页 |
| ·本章小结 | 第68-70页 |
| 第5章 结论与展望 | 第70-73页 |
| ·结论 | 第70-71页 |
| ·本文创新点 | 第71-72页 |
| ·不足之处和将来工作 | 第72-73页 |
| 参考文献 | 第73-76页 |
| 致谢 | 第76页 |
