RF CMOS工艺肖特基二极管特性及建模研究

摘要	第1-3页
ABSTRACT	第3-5页
第1章 绪论	第5-12页
·射频集成电路的发展和应用	第5-8页
·射频集成电路的制造工艺	第8-10页
·所选课题的目的和意义	第10-11页
·本文的主要内容	第11-12页
第2章 肖特基二极管的原理及其应用	第12-28页
·金属半导体接触及其能带图	第12-15页
·肖特基势垒的电流输运过程	第15-20页
·肖特基势垒高度的影响因素	第20-23页
·欧姆接触	第23-25页
·硅基肖特基二极管的研究现状	第25-26页
·肖特基二极管在射频电路中的应用	第26-28页
第3章 肖特基二极管设计考虑	第28-37页
·肖特基二极管的结构	第28-32页
·制造工艺中接触金属材料的特性	第32-34页
·测试考虑	第34-37页
第4章 肖特基二极管的测试和结果分析	第37-54页
·DC特性测试与结果分析	第37-41页
·CV特性测试和结果分析	第41-43页
·RF特性测试与结果分析	第43-48页
·肖特基二极管参数的计算	第48-54页
第5章 肖特基二极管的模型建立	第54-62页
·半导体器件模型化的重要性及其流程	第54-56页
·DC特性建模	第56-59页
·RF特性建模	第59-62页
结束语	第62-63页
参考文献	第63-66页
致谢	第66页