MgB2的成相过程及反应机理分析
| 摘要 | 第1-3页 |
| Abstract | 第3-7页 |
| 第一章 文献综述 | 第7-21页 |
| ·超导的基本概念及性质 | 第7-8页 |
| ·超导的概念 | 第7页 |
| ·超导体的基本性质 | 第7-8页 |
| ·超导体的发展历史 | 第8-10页 |
| ·低温超导体的发展 | 第9页 |
| ·高温超导体的发展 | 第9-10页 |
| ·超导体的应用领域及现状 | 第10-12页 |
| ·超导技术的应用 | 第10-11页 |
| ·各国对高温超导的研究现状 | 第11页 |
| ·高温超导体的局限性 | 第11-12页 |
| ·MgB_2超导体发展简介 | 第12-14页 |
| ·MgB_2的晶体结构 | 第12页 |
| ·MgB_2的超导机理 | 第12-14页 |
| ·MgB_2的优异性能及特点 | 第14页 |
| ·现阶段MgB_2的制备方法 | 第14-20页 |
| ·MgB_2块体的制备 | 第14-16页 |
| ·线、带材的制备 | 第16-19页 |
| ·MgB_2薄膜的制备 | 第19-20页 |
| ·本课题的研究内容和意义 | 第20-21页 |
| 第二章 研究方法与内容 | 第21-27页 |
| ·实验材料的制备 | 第21页 |
| ·MgB_2烧结块材的制备 | 第21页 |
| ·分析测试方法 | 第21-25页 |
| ·显微组织分析 | 第21-22页 |
| ·X-射线衍射分析 | 第22页 |
| ·差热分析 | 第22-23页 |
| ·超导量子干涉仪（SQUID） | 第23-25页 |
| ·实验内容 | 第25页 |
| ·技术路线 | 第25-27页 |
| 第三章 MgB_2的低温反应过程及机理分析 | 第27-40页 |
| ·烧结的基本原理 | 第27-28页 |
| ·MgB_2的形成机理与讨论 | 第28-39页 |
| ·DTA 曲线分析 | 第28-30页 |
| ·不同温度段对生成MgB_2的影响 | 第30-39页 |
| ·小结 | 第39-40页 |
| 第四章 保温时间对MgB_2低温合成的影响 | 第40-51页 |
| ·实验结果与分析 | 第40-47页 |
| ·固相反应阶段 | 第40-45页 |
| ·液相反应阶段 | 第45-47页 |
| ·超导电性的比较 | 第47-48页 |
| ·Mg-B 体系的热力学分析 | 第48-50页 |
| ·小结 | 第50-51页 |
| 第五章 MgB_2晶须的形成及机理分析 | 第51-62页 |
| ·MgB_2晶体的生长形态研究 | 第51-52页 |
| ·MgB_2晶须的形态及形成条件 | 第52-53页 |
| ·MgB_2晶须生长的基本过程 | 第53-60页 |
| ·介质过饱和 | 第53页 |
| ·晶须的成核作用 | 第53-55页 |
| ·晶须的生长阶段 | 第55-60页 |
| ·MgB_2六边形台阶结构特征 | 第60页 |
| ·具有晶须形貌的MgB_2超导特性 | 第60-61页 |
| ·小结 | 第61-62页 |
| 第六章 结论 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-68页 |
| 发表论文和科研情况说明 | 第68-69页 |
| 致谢 | 第69页 |
