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典型Ⅲ族氮化物半导体材料第一性原理研究

摘要第1-8页
ABSTRACT第8-12页
第一章 绪论第12-21页
 §1.1 引言第12页
 §1.2 Ⅲ族氮化物半导体材料的基本性质及制备方法第12-16页
     ·Ⅲ族氮化物半导体材料的基本性质第12-14页
     ·Ⅲ族氮化物的制备方法第14-16页
 §1.3 GaN和InN的研究现状及发展趋势第16-18页
 §1.4 第一性原理的发展、作用及优点第18-19页
 §1.5 本文研究目的和内容第19-21页
第二章 密度泛函理论基础与计算方法简介第21-36页
 §2.1 引言第21页
 §2.2 多电子体系的薛定谔方程第21-24页
     ·非相对近似第22页
     ·Born-Oppenheimer近似第22-23页
     ·轨道近似第23-24页
 §2.3 密度泛函理论基础第24-27页
     ·Hohenberg-Kohn定理第24-25页
     ·Kohn-Sham方程第25-27页
 §2.4 交换-关联能函数近似第27-28页
     ·局域密度近似(LDA)第27页
     ·广义梯度近似(GGA)第27-28页
 §2.5 基函和赝势第28-31页
 §2.6 自洽运算和结构优化第31-34页
     ·自洽运算第31-32页
     ·结构优化第32-33页
     ·k空间取样规则第33-34页
     ·快速傅立叶变换(FFT)第34页
 §2.7 CASTEP软件包的功能特点第34-36页
第三章 Al、Mg掺杂GaN电子结构及光学性质的第一性原理研究第36-46页
 §3.1 引言第36页
 §3.2 理论模型和计算方法第36-38页
     ·计算方法第36-37页
     ·理论模型第37页
       ·光学性质的理论描述第37-38页
 §3.3 计算结果与讨论第38-45页
     ·结构性质第38-39页
     ·体系的分波态密度第39-40页
     ·原子布居分析第40-41页
     ·光学性质分析第41-45页
 §3.4 结论第45-46页
第四章 高压对闪锌矿型InN电子结构与光学性质的影响第46-52页
 §4.1 引言第46页
 §4.2 理论模型与计算方法第46-47页
 §4.3 计算结果与讨论第47-51页
     ·0GPa下闪锌矿InN的计算结果与讨论第47-48页
     ·闪锌矿InN的几何结构第48页
     ·电子结构第48-50页
     ·InN的光吸收谱第50-51页
 §4.4 结论第51-52页
第五章 Cr、Mn掺杂InN的电子结构和磁性研究第52-58页
 §5.1 引言第52页
 §5.2 理论模型与计算方法第52-54页
     ·理论模型第52-53页
     ·计算方法第53-54页
 §5.3 计算结果与讨论第54-57页
     ·电子结构第54-56页
     ·磁矩分布第56-57页
 §5.4 结论第57-58页
第六章 结论与展望第58-59页
致谢第59-60页
参考文献第60-65页

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