| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第—章 绪论 | 第10-22页 |
| ·太阳电池发展历程以及在我国发展存在的问题 | 第10-14页 |
| ·太阳电池的发展历程 | 第10-13页 |
| ·第一代太阳电池 | 第10-12页 |
| ·第二代太阳电池 | 第12页 |
| ·第三代太阳电池 | 第12-13页 |
| ·太阳电池在我国发展存在的问题 | 第13-14页 |
| ·多晶硅表面绒面处理工艺的进展 | 第14-18页 |
| ·机械刻槽 | 第14页 |
| ·等离子刻蚀(RIE) | 第14-15页 |
| ·激光刻槽 | 第15-16页 |
| ·湿法腐蚀 | 第16-18页 |
| ·本文的研究目的和内容 | 第18-19页 |
| 参考文献 | 第19-22页 |
| 第二章 多晶硅绒面的模拟 | 第22-38页 |
| ·引言 | 第22-24页 |
| ·多晶硅绒面模型的提出 | 第24-28页 |
| ·应用FDTD Solution 7.5软件进行模拟 | 第28-36页 |
| ·FDTD Solution 7.5软件介绍 | 第28-31页 |
| ·模拟结果与分析 | 第31-36页 |
| ·本章小结 | 第36-37页 |
| 参考文献 | 第37-38页 |
| 第三章 不同溶液下制得的不同多晶硅绒面与模拟结果的对比与分析 | 第38-54页 |
| ·引言 | 第38-39页 |
| ·实验部分 | 第39-41页 |
| ·实验原料 | 第39页 |
| ·实验以及测试设备 | 第39-41页 |
| ·RENA清洗机 | 第40页 |
| ·3D激光共聚焦扫描显微镜VK-9700 | 第40-41页 |
| ·实验过程 | 第41页 |
| ·高HF浓度体系 | 第41页 |
| ·高HNO_3浓度体系 | 第41页 |
| ·结果与讨论 | 第41-49页 |
| ·高HF浓度体系 | 第41-45页 |
| ·高HNO_3浓度体系 | 第45-49页 |
| ·实验结果与模拟结果的比较 | 第49-52页 |
| ·高HF浓度体系 | 第49-51页 |
| ·高HNO_3浓度体系 | 第51-52页 |
| ·本章小结 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-54页 |
| 第四章 全文总结 | 第54-55页 |
| 攻读硕士期间发表的论文 | 第55-56页 |
| 致谢 | 第56-57页 |