磷在p型硅中扩散工艺研究
摘要 | 第1-7页 |
Abstract | 第7-9页 |
目录 | 第9-11页 |
第一章 绪论 | 第11-21页 |
·论文背景 | 第11-12页 |
·太阳能电池发展 | 第11-12页 |
·太阳能电池种类 | 第12页 |
·太阳能电池工作原理 | 第12-17页 |
·PN结的光电特性 | 第12-13页 |
·半导体太阳能电池特性 | 第13-16页 |
·太阳电池等效电路 | 第16-17页 |
·磷扩散研究的发展和现状 | 第17-19页 |
·扩散研究的进展 | 第17-18页 |
·影响磷扩散一些因素 | 第18-19页 |
·工艺设备的发展 | 第19页 |
·本论文研究内容及意义 | 第19-21页 |
·本论文内容与结构 | 第19-20页 |
·本论文研究意义 | 第20-21页 |
第二章 产线扩散工艺及理论 | 第21-33页 |
·硅太阳电池工艺概述 | 第21-25页 |
·清洗制绒 | 第21-22页 |
·扩散 | 第22-23页 |
·去边结 | 第23-24页 |
·PECVD镀膜 | 第24-25页 |
·丝网印刷和烧结 | 第25页 |
·扩散实验及检测设备 | 第25-28页 |
·扩散炉 | 第25-27页 |
·四探针 | 第27-28页 |
·恒定源扩散与恒量源扩散 | 第28-30页 |
·总杂质量与方块电阻 | 第30-32页 |
·本章小结 | 第32-33页 |
第三章 产线扩散实验 | 第33-42页 |
·方块电阻调整实验 | 第33-36页 |
·实验设计 | 第33-34页 |
·实验结果及分析 | 第34-36页 |
·方块电阻与效率关系实验 | 第36-38页 |
·实验设计 | 第36页 |
·实验结果与分析 | 第36-38页 |
·片均匀性实验 | 第38-41页 |
·实验设计 | 第38-39页 |
·实验结果及分析 | 第39-41页 |
·本章小结 | 第41-42页 |
第四章 扩散模拟实验 | 第42-49页 |
·模拟软件介绍 | 第42页 |
·关于温度、时间的模拟实验 | 第42-45页 |
·氧化层模拟实验对比产线氧气实验 | 第45-48页 |
·氧化层厚度模拟实验 | 第45-46页 |
·产线氧气实验 | 第46-48页 |
·本章小结 | 第48-49页 |
第五章 总结 | 第49-51页 |
参考文献 | 第51-54页 |
研究生期间主要工作 | 第54页 |
参加项目 | 第54-55页 |
致谢 | 第55-56页 |