基于钴基非晶材料巨磁阻抗效应传感器的研究
内容提要 | 第1-9页 |
第一章 绪论 | 第9-27页 |
·引言 | 第9-10页 |
·巨磁阻抗(GMI)效应简介 | 第10-13页 |
·GMI 效应的历史 | 第10页 |
·GMI 效应的基本理论 | 第10-13页 |
·GMI 效应的相关因素 | 第13-18页 |
·GMI 效应与磁各向异性的关系 | 第13-16页 |
·GMI 效应与驱动电流频率的关系 | 第16-18页 |
·GMI 与磁致伸缩的关系 | 第18页 |
·材料中的GMI 效应研究概述 | 第18-19页 |
·细丝的GMI 效应 | 第18-19页 |
·薄带(条带)的GMI 效应 | 第19页 |
·薄膜的GMI 效应 | 第19页 |
·GMI 效应的应用 | 第19-25页 |
·商业化的GMI 效应材料 | 第19-20页 |
·GMI 效应传感器件 | 第20-24页 |
·“让GMI 效应作为一种工具” | 第24-25页 |
·论文的设计思想和研究内容 | 第25-27页 |
第二章 设计传感器选材及测试设备与方法 | 第27-35页 |
·设计传感器选材 | 第27-29页 |
·商品化Co 基非晶薄带 | 第28页 |
·实验室制备的CoZrB 非晶带 | 第28-29页 |
·非晶带物理特性测量 | 第29-31页 |
·材料非晶相鉴定 | 第29页 |
·材料磁性的测量 | 第29-30页 |
·电阻率的测定 | 第30-31页 |
·磁致伸缩系数的测定 | 第31页 |
·传感器测试设备与方法 | 第31-35页 |
·磁场传感器测试设备与方法 | 第31-32页 |
·电流传感器及其他测试设备与方法 | 第32-35页 |
第三章 巨磁阻抗效应磁场传感器 | 第35-67页 |
·技术背景 | 第35-37页 |
·传感器设计原理 | 第37-38页 |
·传感器各组成部分说明 | 第38-44页 |
·实验结果分析与讨论 | 第44-64页 |
·基于商用Co 基非晶带的线性化输出 | 第44-55页 |
·基于实验室自制的CoZrB 非晶带非线性化输出 | 第55-64页 |
·本章小结 | 第64-67页 |
第四章 阵列式巨磁阻抗效应电流传感器 | 第67-83页 |
·技术背景 | 第67-69页 |
·传感器设计与工作原理 | 第69-75页 |
·实验结果分析与讨论 | 第75-81页 |
·本章小结 | 第81-83页 |
第五章 螺旋式巨磁阻抗效应电流传感器 | 第83-101页 |
·技术背景 | 第83-84页 |
·传感器设计与工作原理 | 第84-91页 |
·实验结果分析与讨论 | 第91-99页 |
·探头的选择 | 第91-95页 |
·传感器输出结果分析 | 第95-99页 |
·本章小结 | 第99-101页 |
第六章 全文总结与展望 | 第101-105页 |
·总结 | 第101-103页 |
·未来工作展望 | 第103-105页 |
参考文献 | 第105-117页 |
攻读博士学位期间发表的学术论文及科研成果 | 第117-119页 |
致谢 | 第119-120页 |
摘要 | 第120-124页 |
Abstract | 第124-130页 |