摘要 | 第5-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
第1章 绪论 | 第10-20页 |
1.1 引言 | 第10-11页 |
1.2 分离膜材料的研究及应用 | 第11-12页 |
1.3 聚偏氟乙烯(PVDF)分离膜的研究进展 | 第12-13页 |
1.4 电化学交流阻抗谱(EIS) | 第13-17页 |
1.4.1 电化学阻抗谱的发展史 | 第13-15页 |
1.4.2 电化学交流阻抗谱的测试方法及原理 | 第15-17页 |
1.5 课题选择 | 第17-20页 |
第2章 PVDF分离膜的制备及其电化学表征 | 第20-34页 |
2.1 引言 | 第20页 |
2.2 实验部分 | 第20-23页 |
2.2.1 PVDF分离膜的制备 | 第20-23页 |
2.2.2 电化学阻抗谱测试装置 | 第23页 |
2.3 结果与讨论 | 第23-32页 |
2.3.1 等效电路的建立 | 第23-25页 |
2.3.2 EIS测试中阻抗的解析 | 第25-26页 |
2.3.3 不同电解质溶液浓度对EIS测试的影响 | 第26-28页 |
2.3.4 不同孔隙率的PVDF膜对EIS测试的影响 | 第28-30页 |
2.3.5 利用EIS测试中特征频率变化从而实现对膜阻抗变化的快速监测 | 第30-32页 |
2.4 本章小结 | 第32-34页 |
第3章 电化学交流阻抗谱对PVDF材料电老化的表征 | 第34-44页 |
3.1 引言 | 第34页 |
3.2 实验部分 | 第34-36页 |
3.2.1 PVDF膜样品的制备 | 第34-35页 |
3.2.2 电化学阻抗谱测试装置 | 第35-36页 |
3.3 结果与讨论 | 第36-43页 |
3.3.1 等效电路的建立 | 第36-37页 |
3.3.2 EIS数据的分析 | 第37-39页 |
3.3.3 处理前后PVDF的X射线衍射分析 | 第39-43页 |
3.4 本章小结 | 第43-44页 |
第4章 利用电化学交流阻抗谱表征不同温度下PVDF/石墨烯复合膜的孔洞稳定性 | 第44-64页 |
4.1 引言 | 第44-48页 |
4.1.1 TOEC技术的原理介绍 | 第44-45页 |
4.1.2 石墨烯的介绍 | 第45-47页 |
4.1.3 热传导理论基础 | 第47-48页 |
4.2 实验部分 | 第48-51页 |
4.2.1 PVDF/石墨烯复合膜的制备 | 第48-50页 |
4.2.2 电化学测试及实验装置 | 第50-51页 |
4.3 结果与讨论 | 第51-63页 |
4.3.1 PVDF/石墨烯复合膜接触角的表征 | 第51-52页 |
4.3.2 PVDF/石墨烯复合膜的表面形貌表征 | 第52-53页 |
4.3.3 PVDF/石墨烯复合膜在不同温度下的电化学表征 | 第53-57页 |
4.3.4 PVDF/石墨烯复合膜保持在固定温度下的电化学测试 | 第57-63页 |
4.4 本章小结 | 第63-64页 |
第5章 总结与展望 | 第64-66页 |
5.1 结论 | 第64-65页 |
5.2 展望 | 第65-66页 |
参考文献 | 第66-74页 |
攻读学位期间取得的研究成果 | 第74-76页 |
致谢 | 第76页 |