| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 1 绪论 | 第14-20页 |
| 1.1 背景介绍 | 第14页 |
| 1.2 核素成像全过程 | 第14-15页 |
| 1.3 影响核素成像的因素 | 第15-18页 |
| 1.3.1 放射性核素 | 第15页 |
| 1.3.2 肿瘤形态 | 第15-16页 |
| 1.3.3 肿瘤发生的组织 | 第16页 |
| 1.3.4 磁场作用 | 第16-17页 |
| 1.3.5 探测器分辨率 | 第17-18页 |
| 1.4 论文的研究意义和主要内容 | 第18-20页 |
| 2 实验原理与方法 | 第20-28页 |
| 2.1 正电子 | 第20-22页 |
| 2.1.1 电子的发现历史 | 第20-21页 |
| 2.1.2 正电子的产生 | 第21页 |
| 2.1.3 正电子在材料中的过程 | 第21-22页 |
| 2.2 软件介绍 | 第22-24页 |
| 2.2.1 Geant4 | 第22-23页 |
| 2.2.2 Root | 第23-24页 |
| 2.3 模拟流程 | 第24-25页 |
| 2.4 正电子分布和核素分布的形成 | 第25-27页 |
| 2.5 本章小结 | 第27-28页 |
| 3 无磁场下正电子分布的研究 | 第28-32页 |
| 3.1 正电子二维分布图 | 第28-29页 |
| 3.2 正电子分布的临界半径的研究 | 第29页 |
| 3.3 正电子分布分散程度的研究 | 第29-31页 |
| 3.4 本章小结 | 第31-32页 |
| 4 磁场下正电子分布的研究 | 第32-41页 |
| 4.1 磁场下的正电子分布 | 第32-33页 |
| 4.2 磁场对正电子分布的压缩变形因子 | 第33-37页 |
| 4.2.1 缩变形因子W与正电子能量的关系 | 第34-35页 |
| 4.2.2 变形因子W与源尺寸的关系 | 第35-36页 |
| 4.2.3 缩变形因子W与磁场强度B的关系 | 第36-37页 |
| 4.3 磁场中正电子分布与初始放射性核素分布的比较 | 第37-39页 |
| 4.4 本章小结 | 第39-41页 |
| 5 肿瘤类型和发生位置对成像的影响 | 第41-55页 |
| 5.1 包裹型 | 第42-45页 |
| 5.1.1 包裹型模型 | 第42页 |
| 5.1.2 源内外材质相差大的结果 | 第42-44页 |
| 5.1.3 源内外材质密度相差小的结果 | 第44-45页 |
| 5.2 源位置造成的正电子分布偏差 | 第45-53页 |
| 5.2.1 点源 | 第45-46页 |
| 5.2.2 球源 | 第46-53页 |
| 5.3 本章小结 | 第53-55页 |
| 6 组织和本底核素浓度之比对成像的影响 | 第55-61页 |
| 6.1 单源浓度比的研究 | 第55-59页 |
| 6.2 多源浓度比下切片方式的研究 | 第59-60页 |
| 6.3 本章小结 | 第60-61页 |
| 7 主要结论与展望 | 第61-63页 |
| 参考文献 | 第63-67页 |
| 个人简历、攻读学位期间发表的学术论文与研究成果 | 第67-68页 |
| 致谢 | 第68-69页 |