| 中文摘要 | 第4-6页 |
| abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-25页 |
| 1.1 引言 | 第10-11页 |
| 1.2 二氧化钒的结构及性质 | 第11-18页 |
| 1.3 二氧化钒的应用 | 第18页 |
| 1.4 Conjugated Organic Materials分子与基底的作用 | 第18-23页 |
| 1.5 本课题的研究背景及意义 | 第23-25页 |
| 第二章 V_(1-X)W_XO_2的制备方法和表征手段 | 第25-34页 |
| 2.1 制备方法 | 第25-26页 |
| 2.2 表征手段 | 第26-34页 |
| 2.2.1 角分辨光电子能谱仪 | 第26-30页 |
| 2.2.2 X射线衍射(X-Ray Diffraction,XRD) | 第30-31页 |
| 2.2.3 原子力显微镜(Atomic Force Microscopy,AFM) | 第31-32页 |
| 2.2.4 四探针法 | 第32-34页 |
| 第三章 化学计量和氧缺陷VO_2作为有机半导体的多功能空穴注入电极 | 第34-55页 |
| 3.1 引言 | 第34-35页 |
| 3.2 实验方法 | 第35-36页 |
| 3.3 结果和讨论 | 第36-54页 |
| 3.4 本章小结 | 第54-55页 |
| 第四章 不同溅射和退火条件对VO_2表面性能的影响 | 第55-75页 |
| 4.1 引言 | 第55-56页 |
| 4.2 循环处理对VO_2表面的影响—处理流程Ⅰ | 第56-62页 |
| 4.2.1 处理步骤 | 第56-57页 |
| 4.2.2 结果与讨论 | 第57-62页 |
| 4.2.3 小结 | 第62页 |
| 4.3 循环处理对VO_2表面的影响—处理流程Ⅱ | 第62-69页 |
| 4.3.1 处理步骤 | 第62-64页 |
| 4.3.2 结果与讨论 | 第64-69页 |
| 4.3.3 小结 | 第69页 |
| 4.4 综合分析所有处理方法对VO_2表面的影响 | 第69-73页 |
| 4.5 本章小结 | 第73-75页 |
| 第五章 本文总结与展望 | 第75-78页 |
| 5.1 本文总结 | 第75-76页 |
| 5.2 未来工作展望 | 第76-78页 |
| 参考文献 | 第78-95页 |
| 攻读学位期间本人出版或公开发表的论著、论文 | 第95-96页 |
| 致谢 | 第96-97页 |
