氧化物柔性透明电子学器件物理及工艺研究
| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第10-24页 |
| 1.1 ZnO基柔性透明电子器件 | 第11-22页 |
| 1.1.1 柔性衬底 | 第11-14页 |
| 1.1.2 柔性衬底上的沟道层 | 第14-16页 |
| 1.1.3 柔性衬底上的绝缘层 | 第16-19页 |
| 1.1.4 柔性衬底上的透明电极 | 第19-22页 |
| 1.2 本论文的研究内容 | 第22-24页 |
| 第2章 实验方法及原理 | 第24-37页 |
| 2.1 柔性透明电子器件的制备工艺 | 第24-29页 |
| 2.1.1 磁控溅射技术 | 第24-26页 |
| 2.1.2 原子层沉积技术 | 第26-27页 |
| 2.1.3 紫外光刻技术 | 第27-29页 |
| 2.2 柔性透明电子器件的测试方法 | 第29-37页 |
| 2.2.1 柔性器件的弯曲测试 | 第30-31页 |
| 2.2.2 柔性器件的应变计算 | 第31-32页 |
| 2.2.3 机械应变的方向和类型 | 第32-37页 |
| 第3章 柔性薄膜晶体管和二极管 | 第37-50页 |
| 3.1 柔性全透明薄膜晶体管的制备 | 第37-44页 |
| 3.1.1 衬底的处理 | 第37-39页 |
| 3.1.2 栅电极的制作 | 第39-40页 |
| 3.1.3 绝缘层的制备 | 第40-42页 |
| 3.1.4 沟道层的制备 | 第42-44页 |
| 3.1.5 源漏电极的制备 | 第44页 |
| 3.2 柔性全透明薄膜晶体管的性能测试 | 第44-45页 |
| 3.3 柔性全透明场效应二极管的研制 | 第45-50页 |
| 第4章 柔性高压薄膜晶体管和高压二极管 | 第50-64页 |
| 4.1 柔性高压薄膜晶体管 | 第50-54页 |
| 4.2 柔性高压二极管及其在能量管理电路中的应用 | 第54-63页 |
| 4.2.1 器件结构和制备工艺 | 第55-56页 |
| 4.2.2 器件性能测试 | 第56-57页 |
| 4.2.3 器件物理模拟 | 第57-59页 |
| 4.2.4 机械性能测试 | 第59-60页 |
| 4.2.5 半波整流电路 | 第60-61页 |
| 4.2.6 全波整流电路 | 第61-62页 |
| 4.2.7 全透明高压二极管 | 第62-63页 |
| 4.3 本章小结 | 第63-64页 |
| 第5章 柔性高压器件的自对准工艺 | 第64-73页 |
| 5.1 自对准工艺流程 | 第64-65页 |
| 5.2 器件性能测试 | 第65-67页 |
| 5.3 自对准工艺的原理 | 第67-68页 |
| 5.4 offset长度的调控 | 第68-70页 |
| 5.5 高压反相器 | 第70-71页 |
| 5.6 自对准工艺在柔性高压器件中的应用 | 第71-73页 |
| 第6章 结论 | 第73-75页 |
| 参考文献 | 第75-86页 |
| 个人简历及发表文章目录 | 第86-89页 |
| 致谢 | 第89页 |
