| 摘要 | 第3-4页 |
| abstract | 第4页 |
| 第一章 绪论 | 第6-9页 |
| 1.1 极紫外光刻（EUVL）研究现状 | 第6页 |
| 1.2 EUV多层膜的研究现状 | 第6-7页 |
| 1.3 论文研究的目的和主要内容 | 第7-9页 |
| 第二章 EUV多层膜的理论基础 | 第9-18页 |
| 2.1 光学薄膜简介 | 第9页 |
| 2.2 EUV多层膜膜系中的反射理论 | 第9-18页 |
| 第三章 实数编码的遗传算法和实数量子进化算法的理论基础 | 第18-30页 |
| 3.1 遗传算法研究背景 | 第18-19页 |
| 3.2 实数编码的遗传算法（RGA） | 第19-21页 |
| 3.2.1 实数编码遗传算法的前景及其发展概况 | 第19-21页 |
| 3.3 实数编码的量子进化算法（RQEA） | 第21-29页 |
| 3.4 本章小结 | 第29-30页 |
| 第四章 EUV多层膜GIXR的理论模拟及其基于量子进化算法的反演 | 第30-37页 |
| 4.1 EUV多层膜表征的研究背景 | 第30页 |
| 4.2 考虑多种测量误差情况下的GIXR的理论模拟 | 第30-32页 |
| 4.3 基于RQEA和RGA对GIXR的的反演求解及其比较分析 | 第32-36页 |
| 4.4 本章小结 | 第36-37页 |
| 第五章 基于量子进化算法的宽光谱EUV多层膜的设计 | 第37-44页 |
| 5.1 宽光谱EUV多层膜的研究背景 | 第37页 |
| 5.2 宽光谱EUV多层膜的设计方法 | 第37-38页 |
| 5.3 基于RQEA和RGA的宽光谱EUV多层膜的设计及比较分析 | 第38-43页 |
| 5.4 本章小结 | 第43-44页 |
| 结论 | 第44-45页 |
| 致谢 | 第45-46页 |
| 参考文献 | 第46-49页 |
| 攻读硕士期间发表文章 | 第49页 |
