表面电磁缺陷散射建模及其RCS缩减研究
| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-14页 |
| 1.1 研究工作的背景与意义 | 第9-10页 |
| 1.2 国内外研究现状与发展趋势 | 第10-12页 |
| 1.3 本文的研究内容和贡献 | 第12页 |
| 1.4 本论文的结构安排 | 第12-14页 |
| 第二章 电磁缺陷结构数值分析方法 | 第14-23页 |
| 2.1 矩量法简介 | 第14-15页 |
| 2.2 多层快速多极子方法（MLFMA） | 第15-18页 |
| 2.3 线性方程组求解 | 第18-22页 |
| 2.3.1 直接法和迭代解法简介 | 第18-19页 |
| 2.3.2 广义最小余量法简介 | 第19-21页 |
| 2.3.3 预条件技术 | 第21-22页 |
| 2.4 本章小结 | 第22-23页 |
| 第三章 对缺陷结构数值分析方法的改进 | 第23-38页 |
| 3.1 分析缺陷结构数值方法改进思路 | 第23页 |
| 3.2 紧缩重启的广义最小余量法GMRES-DR | 第23-29页 |
| 3.2.1 GMRES-DR基本思想 | 第23-25页 |
| 3.2.2 GMRES-DR性能 | 第25-29页 |
| 3.3 混合预条件技术 | 第29-36页 |
| 3.3.1 稀疏近似逆预条件技术 | 第30-31页 |
| 3.3.2 双步混合预条件技术基本思想 | 第31-33页 |
| 3.3.3 双步混合预条件技术性能 | 第33-36页 |
| 3.3.4 双步混合预条件技术性能的影响因数 | 第36页 |
| 3.4 本章小结 | 第36-38页 |
| 第四章 几类典型表面电磁缺陷结构散射分析 | 第38-52页 |
| 4.1 缺陷结构散射机理分析 | 第38页 |
| 4.2 表面缝隙结构电磁散射特性研究 | 第38-45页 |
| 4.2.1 平板表面缝隙电磁散射特性 | 第39-41页 |
| 4.2.2 低散射体表面缝隙电磁散射特性 | 第41-43页 |
| 4.2.3 平板表面多缝隙电磁散射特性 | 第43-45页 |
| 4.3 台阶结构电磁散射特性研究 | 第45-48页 |
| 4.3.1 平板表面单台阶电磁散射特性 | 第45-47页 |
| 4.3.2 平板表面多台阶电磁散射特性 | 第47-48页 |
| 4.4 表面孔洞结构电磁散射特性研究 | 第48-51页 |
| 4.5 本章小结 | 第51-52页 |
| 第五章 几种典型表面电磁缺陷结构RCS减缩技术 | 第52-63页 |
| 5.1 RCS减缩基本策略简介 | 第52页 |
| 5.2 表面缝隙结构RCS减缩 | 第52-59页 |
| 5.2.1 平板表面缝隙斜置 | 第52-54页 |
| 5.2.2 表面缝隙锯齿化 | 第54-58页 |
| 5.2.3 平板表面缝隙材料填充 | 第58-59页 |
| 5.3 表面台阶结构RCS减缩 | 第59-60页 |
| 5.4 表面孔洞结构RCS减缩 | 第60-62页 |
| 5.5 本章小结 | 第62-63页 |
| 结束语 | 第63-64页 |
| 致谢 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-69页 |
| 攻读硕士学位期间取得的成果 | 第69-70页 |
