| 摘要 | 第6-7页 |
| ABSTRACT | 第7-8页 |
| 第1章 绪论 | 第11-24页 |
| 1.1 引言 | 第11-12页 |
| 1.2 半导体光催化技术简介 | 第12-18页 |
| 1.2.1 半导体光催化原理 | 第12-13页 |
| 1.2.2 半导体光催化改性 | 第13-15页 |
| 1.2.3 半导体光催化应用 | 第15-18页 |
| 1.3 可见光光催化剂研究进展 | 第18-21页 |
| 1.3.1 卤化银半导体光催化剂简介 | 第18-19页 |
| 1.3.2 氧化铋半导体光催化剂简介 | 第19-21页 |
| 1.4 本文研究的意义和研究内容 | 第21-24页 |
| 第2章 实验方法 | 第24-34页 |
| 2.1 化学试剂与实验设备 | 第24-25页 |
| 2.2 催化剂结构表征方法 | 第25-29页 |
| 2.2.1 X射线衍射分析(XRD) | 第25-26页 |
| 2.2.2 X射线电子能谱(XPS) | 第26页 |
| 2.2.3 场发射扫描电子显微镜(FESEM) | 第26-27页 |
| 2.2.4 透射电子显微镜(TEM) | 第27-28页 |
| 2.2.5 紫外-可见光漫反射谱(DRS) | 第28页 |
| 2.2.6 固体光致发光光谱(PL) | 第28-29页 |
| 2.3 实验方法与实验步骤 | 第29-34页 |
| 2.3.1 光催化评价实验 | 第29-32页 |
| 2.3.2 自由基捕获实验 | 第32页 |
| 2.3.3 羟基检测实验 | 第32-34页 |
| 第3章 分片层单斜晶系氧化铋(α-Bi_2O_3)制备,表征及可见光催化活性 | 第34-43页 |
| 3.1 引言 | 第34-35页 |
| 3.2 实验部分 | 第35-36页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第36-42页 |
| 3.4 本章结论 | 第42-43页 |
| 第4章 AgBr@Bi_2O_3复合材料制备,表征及其可见光光催化活性机制研究 | 第43-60页 |
| 4.1 引言 | 第43-44页 |
| 4.2 实验部分 | 第44-45页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第45-55页 |
| 4.4 复合材料的光催化反应机理的探索 | 第55-59页 |
| 4.5 本章结论 | 第59-60页 |
| 第5章 全文总结与展望 | 第60-62页 |
| 参考文献 | 第62-70页 |
| 致谢 | 第70-71页 |
| 攻读硕士学位期间论文发表及科研情况 | 第71页 |