| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-15页 |
| ·课题研究的背景和意义 | 第10-11页 |
| ·超精密加工技术发展状况 | 第11-12页 |
| ·超精密双面抛光机的国内外研究现状 | 第12-13页 |
| ·本论文的主要研究内容 | 第13-15页 |
| 第2章 超精密双面抛光加工技术 | 第15-23页 |
| ·典型超精密抛光方法概述 | 第15-19页 |
| ·化学机械抛光 | 第15-16页 |
| ·水合抛光 | 第16页 |
| ·非接触抛光 | 第16页 |
| ·弹性发射加工 | 第16-17页 |
| ·动压浮离抛光 | 第17页 |
| ·浮动抛光 | 第17-18页 |
| ·非接触化学抛光 | 第18页 |
| ·离子束抛光 | 第18-19页 |
| ·超精密双面抛光加工机理 | 第19-21页 |
| ·超精密双面抛光原理 | 第19-20页 |
| ·抛光表面形成过程 | 第20-21页 |
| ·抛光主要工艺因素 | 第21-23页 |
| ·抛光盘 | 第21页 |
| ·抛光液 | 第21页 |
| ·抛光垫 | 第21-22页 |
| ·抛光压力 | 第22页 |
| ·抛光速度 | 第22-23页 |
| 第3章 DJP-9BC 超精密双面抛光机总体方案设计 | 第23-34页 |
| ·超精密双面抛光机床的要求 | 第23页 |
| ·传统双面抛光机系统分析 | 第23-26页 |
| ·采用单电机通过齿轮传动使上下抛光盘、内齿圈及外齿圈运动 | 第23-24页 |
| ·采用二电机带动上下抛光盘及内齿圈运动，外齿圈不动 | 第24-25页 |
| ·采用四电机带动上下抛光盘以及内齿圈和外齿圈运动 | 第25-26页 |
| ·DJP-9BC 超精密双面抛光机的总体方案设计 | 第26-30页 |
| ·主机总体设计方案 | 第27-28页 |
| ·控制系统总体设计方案 | 第28-30页 |
| ·DJP-9BC 超精密双面抛光机传动系统结构设计 | 第30-34页 |
| ·双面抛光机传动系统 | 第30-31页 |
| ·上抛光盘组件结构 | 第31-32页 |
| ·下抛光盘主轴组件结构 | 第32-34页 |
| 第4章 双面抛光机主要零部件设计与校核 | 第34-70页 |
| ·机床主轴系统电机选择 | 第34-36页 |
| ·带传动设计 | 第36-40页 |
| ·主轴系统设计与校核 | 第40-61页 |
| ·主轴的设计 | 第40-41页 |
| ·主轴的强度校核 | 第41-42页 |
| ·长轴的设计 | 第42-43页 |
| ·长轴的强度校核 | 第43-45页 |
| ·小轴的设计 | 第45-46页 |
| ·小轴的强度校核 | 第46-48页 |
| ·大轴的设计 | 第48-49页 |
| ·大轴的强度校核 | 第49-51页 |
| ·副轴的设计 | 第51-52页 |
| ·副轴的强度校核 | 第52-55页 |
| ·机架设计 | 第55-56页 |
| ·上下抛光盘 | 第56页 |
| ·滚动轴承选择与校核 | 第56-61页 |
| ·机床主轴系统的精度分析 | 第61-70页 |
| ·滚动轴承中的弹性位移 | 第61-62页 |
| ·轴承配合表面的接触变形 | 第62-64页 |
| ·滚动轴承支承的径向弹性位移和支承刚度 | 第64-65页 |
| ·机床主轴轴承的精度计算 | 第65-70页 |
| 第5章 双面抛光机抛光加工实验研究 | 第70-77页 |
| ·实验条件 | 第70-72页 |
| ·双面抛光实验设备 | 第70-71页 |
| ·双面抛光工艺实验参数 | 第71-72页 |
| ·实验结果 | 第72-77页 |
| 第6章 结论与展望 | 第77-79页 |
| ·结论 | 第77-78页 |
| ·展望 | 第78-79页 |
| 参考文献 | 第79-82页 |
| 致谢 | 第82-83页 |
| 攻读学位期间参加的科研项目和成果 | 第83页 |
