摘要 | 第1-10页 |
ABSTRACT | 第10-12页 |
第一章 绪论 | 第12-18页 |
·AlGaN/GaN异质结器件的研究现状 | 第13-15页 |
·课题研究背景和意义 | 第15-16页 |
·主要工作及内容安排 | 第16-18页 |
第二章 AlGaN/GaN异质结器件的可制造性设计环境 | 第18-26页 |
·工艺级仿真工具-Sentaurus Process | 第19-20页 |
·器件物理特性模拟工具-Sentaurus Device | 第20-22页 |
·集成化的虚拟设计平台-Sentaurus Workbench | 第22-24页 |
·仿真结果查看与分析工具-Inspect和Tecplot SV | 第24-26页 |
第三章 GaN的基本特性和A1GaN\GaN异质结工作原理 | 第26-35页 |
·GaN的基本特性 | 第26-31页 |
·结构特性 | 第26-30页 |
·电学特性 | 第30页 |
·光学特性 | 第30-31页 |
·AlGaN/GaN异质结工作原理 | 第31-35页 |
·极化效应 | 第31-33页 |
·Al_xGa_(1-x)N/GaN器件中2DEG的形成 | 第33-35页 |
第四章 AlGaN/GaN异质结器件的物理模型 | 第35-44页 |
·基本方程 | 第35-37页 |
·泊松方程 | 第35页 |
·连续性方程 | 第35-36页 |
·输运方程 | 第36-37页 |
·极化效应模型 | 第37-38页 |
·自发极化 | 第37页 |
·压电极化 | 第37-38页 |
·模型参数 | 第38页 |
·迁移率模型 | 第38-41页 |
·常数迁移率模型 | 第39页 |
·Canali模型 | 第39-41页 |
·SRH模型 | 第41-42页 |
·禁带宽度的计算 | 第42-44页 |
第五章 AlGaN/GaN器件结构设计及模拟方案 | 第44-50页 |
·器件的结构设计 | 第44-46页 |
·模拟实验方案 | 第46-50页 |
·单因素模拟的实验方案 | 第46-47页 |
·表面响应优化分析 | 第47-50页 |
第六章 AlGaN/GaN器件的模拟结果及分析 | 第50-65页 |
·单因素模拟结果及分析 | 第50-60页 |
·Al组分 | 第50-53页 |
·势垒层厚度 | 第53-55页 |
·应变弛豫度 | 第55-57页 |
·栅偏压 | 第57-59页 |
·其他的因素 | 第59-60页 |
·RSM优化结果及分析 | 第60-65页 |
结束语 | 第65-67页 |
参考文献 | 第67-71页 |
致谢 | 第71-72页 |
攻读硕士学位期间发表的论文 | 第72-73页 |
学位论文评阅及答辩情况表 | 第73页 |