| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 引言 | 第5-7页 |
| 第一章 集成电路的发展与可靠性物理中的SEM技术 | 第7-13页 |
| 第一节 集成电路发展趋势 | 第7-8页 |
| 第二节 可靠性物理的介绍 | 第8-10页 |
| 第三节 光刻工艺中的重要技术——SEM技术 | 第10-11页 |
| 第四节 SEM与APC的关系 | 第11-13页 |
| 第二章 现实可靠性量测中所遇到的问题 | 第13-20页 |
| 第一节 SEM的原理简介 | 第13-14页 |
| 第二节 CDSEM的现实使用的问题 | 第14-15页 |
| 第三节 原因的发现与验证 | 第15-18页 |
| 第四节 磁场的简单介绍 | 第18-20页 |
| 第三章 分析磁场对场发射扫描电子显微技术的影响和提出解决方案 | 第20-29页 |
| 第一节 分析磁场对电子显微技术的影响 | 第20-21页 |
| 第二节 解决方案-工艺方面 | 第21-22页 |
| 第三节 解决方案-硬件方面 | 第22-27页 |
| 第四节 主动式反磁场系统的介绍 | 第27-29页 |
| 第四章 实验结果 | 第29-32页 |
| 第一节 磁场的变化 | 第29-30页 |
| 第二节 产品CD量测的结果 | 第30-32页 |
| 第五章 方案的推广和意义 | 第32-34页 |
| 第六章 总结 | 第34-37页 |
| 参考文献 | 第37-38页 |
| 致谢 | 第38-39页 |