硅纳米结构的溶剂热法合成与表征
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第1章 绪 论 | 第9-20页 |
| ·课题背景 | 第9页 |
| ·硅纳米线的研究进展 | 第9-13页 |
| ·激光烧蚀法 | 第9-11页 |
| ·化学气相沉积法 | 第11-12页 |
| ·热气相沉积法 | 第12页 |
| ·其它方法 | 第12-13页 |
| ·硅纳米管的研究进展 | 第13-17页 |
| ·硅纳米管的理论预测 | 第13-15页 |
| ·硅纳米管制备的实验实现 | 第15-17页 |
| ·水热法合成Ⅳ族一维纳米材料的研究进展 | 第17-19页 |
| ·水热法合成碳纳米管 | 第17-18页 |
| ·溶剂热合成法制备Ⅳ族一维纳米材料 | 第18-19页 |
| ·研究目的和意义 | 第19页 |
| ·主要研究内容 | 第19-20页 |
| 第2章 材料与试验方法 | 第20-23页 |
| ·试验原料及设备 | 第20页 |
| ·实验过程 | 第20-21页 |
| ·分析表征方法 | 第21-23页 |
| ·物相分析 | 第21页 |
| ·SEM 形貌观察 | 第21页 |
| ·TEM 和HRTEM 结构表征 | 第21-22页 |
| ·红外吸收光谱 | 第22页 |
| ·光致发光(PL) | 第22-23页 |
| 第3章 不同水热条件下硅纳米结构的生长特性 | 第23-45页 |
| ·不同反应介质条件下一维硅纳米材料的生长特性 | 第24-37页 |
| ·XRD 物相分析 | 第24-27页 |
| ·一维硅纳米结构的形貌与结构分析 | 第27-37页 |
| ·不同保温时间条件下一维硅纳米结构的生长特性 | 第37-42页 |
| ·实验结果与讨论 | 第38-42页 |
| ·一维硅纳米结构的光学性能 | 第42-44页 |
| ·一维硅纳米结构的红外吸收性能 | 第42-43页 |
| ·一维硅纳米结构的光致发光效应 | 第43-44页 |
| ·本章小结 | 第44-45页 |
| 第4章 有机介质条件下硅纳米材料的合成与表征 | 第45-60页 |
| ·XRD 物相分析 | 第46-47页 |
| ·硅纳米结构的形貌与结构分析 | 第47-57页 |
| ·甲苯作为反应介质时硅纳米结构的形貌与结构 | 第47-56页 |
| ·正己烷作为反应介质时硅纳米结构的形貌与结构 | 第56-57页 |
| ·一维硅纳米结构的光学性能 | 第57-59页 |
| ·硅纳米线/管的红外吸收性能 | 第57-58页 |
| ·硅纳米线/管的光致发光效应 | 第58-59页 |
| ·本章小结 | 第59-60页 |
| 结论 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-66页 |
| 致谢 | 第66页 |