| 中文摘要 | 第1-11页 |
| 英文摘要 | 第11-13页 |
| 第一章 绪论 | 第13-32页 |
| ·TiO_2的研究进展 | 第13-15页 |
| ·TiO_2的晶体结构 | 第15-16页 |
| ·TiO_2的光催化性能 | 第16-19页 |
| ·TiO_2的光催化反应原理 | 第16-18页 |
| ·TiO_2光催化技术的优势以及存在的问题 | 第18-19页 |
| ·TiO_2光催化改性 | 第19页 |
| ·TiO_2的光致亲水性能 | 第19-26页 |
| ·TiO_2的光致亲水性能机理 | 第20-21页 |
| ·TiO_2的光致亲水性与光催化性能之间的关系 | 第21-22页 |
| ·影响TiO_2亲水性能的因素 | 第22-23页 |
| ·改善TiO_2亲水性能的措施 | 第23-24页 |
| ·TiO_2亲水性能的应用 | 第24-26页 |
| ·本课题的研究内容及意义 | 第26-27页 |
| 参考文献 | 第27-32页 |
| 第二章 溅射镀膜简介 | 第32-38页 |
| ·溅射机理 | 第32-33页 |
| ·基本溅射类型 | 第33-35页 |
| ·溅射过程与薄膜生长 | 第35-37页 |
| ·溅射靶材过程 | 第35页 |
| ·溅射粒子迁移过程 | 第35-36页 |
| ·溅射成膜过程 | 第36-37页 |
| 参考文献 | 第37-38页 |
| 第三章 溅射镀膜及表征方法 | 第38-42页 |
| ·溅射镀膜设备及材料 | 第38页 |
| ·石英玻璃基片的清洗 | 第38-39页 |
| ·溅射制备TiO_2薄膜工艺流程 | 第39-40页 |
| ·TiO_2薄膜的表征方法 | 第40-42页 |
| 第四章 N-TiO_2薄膜的磁控溅射法制备和亲水性能的研究 | 第42-56页 |
| ·引言 | 第42-43页 |
| ·TiO_2薄膜的制备 | 第43页 |
| ·N-TiO_2薄膜的制备 | 第43页 |
| ·参比标样的制备 | 第43页 |
| ·结果与讨论 | 第43-52页 |
| ·XRD 分析 | 第43-45页 |
| ·SEM 观察 | 第45-48页 |
| ·XPS 分析 | 第48-50页 |
| ·UV-Vis 分析 | 第50-51页 |
| ·N-TiO_2薄膜的亲水性能 | 第51-52页 |
| ·本章小结 | 第52页 |
| 参考文献 | 第52-56页 |
| 第五章 Al/N-TiO2薄膜的直流反应磁控溅射法制备和亲水性能的研究 | 第56-74页 |
| ·引言 | 第56-57页 |
| ·TiO_2薄膜样品的制备工艺参数 | 第57页 |
| ·结果与讨论 | 第57-69页 |
| ·掺杂对TiO_2薄膜晶体结构的影响 | 第57-59页 |
| ·掺杂对TiO_2薄膜表面形貌的影响 | 第59-61页 |
| ·掺杂对TiO_2薄膜表面元素化学状态的影响 | 第61-64页 |
| ·掺杂对TiO_2薄膜发光性能的影响 | 第64-65页 |
| ·掺杂对TiO_2薄膜紫外－可见光吸收性能的影响 | 第65-68页 |
| ·掺杂对TiO_2薄膜的亲水性能的影响 | 第68-69页 |
| ·本章小结 | 第69-70页 |
| 参考文献 | 第70-74页 |
| 第六章 结论 | 第74-75页 |
| 硕士期间发表的论文 | 第75-76页 |
| 致谢 | 第76页 |