| 中、英文摘要 | 第1-9页 |
| 第一部分 导论 | 第9-22页 |
| 1 调Q技术概述 | 第10-16页 |
| 1．1 主动调Q技术概要 | 第10-13页 |
| 1．2 被动调Q技术 | 第13-16页 |
| 2 激光二极管泵浦技术 | 第16-19页 |
| 2．1 激光二极管泵浦固体激光器的发展 | 第16页 |
| 2．2 激光二极管泵浦的泵浦方式 | 第16-17页 |
| 2．3 激光二极管泵浦固体激光器的应用前景 | 第17-19页 |
| 3 Cr~（4+）：YAG被动调Q的激光二极管泵浦Nd~（3+）：YAG微片式激光器 | 第19-22页 |
| 3．1 粘接式微型激光器谐 | 第19-20页 |
| 3．2 整体式微型激光谐振腔 | 第20-22页 |
| 第二部分 被动调Q用饱和吸收Cr~（4+）：YAG晶体 | 第22-82页 |
| 4 Cr~（4+）：YAG晶体结构及Cr、Ca掺杂 | 第23-27页 |
| 4．1 YAG晶体结构 | 第23-25页 |
| 4．2 Cr~（4+）：YAG晶体结构及Ca~（2+）、Cr~（3+）掺杂 | 第25-26页 |
| 4．3 小结 | 第26-27页 |
| 5 Cr~（4+）：YAG饱和吸收体的制备与液相外延工艺 | 第27-40页 |
| 5．1 掺杂YAG单晶液相外延生长的一般性描述 | 第27-32页 |
| 5．2 石榴石相单晶的液相外延工艺 | 第32-36页 |
| 5．3 外延层性能参数的测试 | 第36-39页 |
| 5．4 小结 | 第39-40页 |
| 6 Cr~（4+）：YAG外延层的吸收光谱特性 | 第40-52页 |
| 6．1 Cr~（4+）：YAG熔料配方 | 第40-41页 |
| 6．2 液相外延Cr~（4+）：YAG晶体的吸收光谱特点 | 第41-50页 |
| 6．3 液相外延Cr~（4+）：YAG对λ=1064nm激光的吸收性能 | 第50-51页 |
| 6．4 小结 | 第51-52页 |
| 7 Cr~（4+）：YAG晶体中Cr~（4+）的能级结构的晶体场理论分析 | 第52-63页 |
| 7．1 Cr~（4+）：YAG晶体中Cr~（4+）格位的D_（2d）对称性 | 第52页 |
| 7．2 Cr~（4+）的离子能级结构计算及在T_d和D_2对称场下的电子状态分解 | 第52-56页 |
| 7．3 Cr~（4+）：YAG晶体中四面体格位Cr~（4+）的能级结构的晶体场的拟合计算 | 第56-60页 |
| 7．4 讨论及小结 | 第60-63页 |
| 8 Cr~（4+）：YAG晶体中Cr~（4+）的能级结构的分子轨道理论计算 | 第63-82页 |
| 8．1 计算[CrO]~（4-）团簇模型 | 第63-64页 |
| 8．2 计算方法 | 第64-74页 |
| 8．3 能级结构与寿命的计算结果及讨论 | 第74-81页 |
| 8．4． 小结 | 第81-82页 |
| 第三部分 激光二极管泵浦Cr~（4+）：YAG被动调Q的Nd~（3+）：YAG微片式激光器输出性能的计算研究 | 第82-105页 |
| 9 被动调Q速率方程 | 第83-88页 |
| 9．1 激光谐振腔内平均光子数率方程 | 第83-85页 |
| 9．2 激光增益介质与饱和吸收介质的粒子数变化数率方程 | 第85-87页 |
| 9．3 小结 | 第87-88页 |
| 10 调Q速率方程的计算编程 | 第88-92页 |
| 10．1 参数取值说明 | 第88-90页 |
| 10．2 计算程序 | 第90-91页 |
| 10．3 小结 | 第91-92页 |
| 11 被动调Q速率方程的数值计算 | 第92-105页 |
| 11．1 典型的脉冲时间序列图 | 第92-94页 |
| 11．2 谐振腔尺寸对调Q激光的影响 | 第94-95页 |
| 11．3 泵浦速率对脉冲调Q激光性能的影响 | 第95-96页 |
| 11．4 Cr~（4+）：YAG中Cr~（4+）掺杂浓度、厚度对微激光器性能的影响 | 第96页 |
| 11．5 谐振腔输出镜反射率对调Q激光的影响 | 第96-97页 |
| 11．6 讨论 | 第97-99页 |
| 11．7 小结 | 第99-105页 |
| 全文结论 | 第105-107页 |
| 参考文献 | 第107-111页 |
| 结束语及致谢 | 第111-112页 |
| 博士后期间发表的论文 | 第112页 |
