基于磁光波导的磁光开关的研制
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-9页 |
| 第一章 引言 | 第9-21页 |
| ·绪论 | 第9-10页 |
| ·光开关的作用 | 第10-13页 |
| ·全光通信网络中的光交换机 | 第10-11页 |
| ·光开关在全光网络中的应用 | 第11-13页 |
| ·光开关分类及工作原理 | 第13-19页 |
| ·MEMS 光开关 | 第13-15页 |
| ·热光开关 | 第15-16页 |
| ·声光开关 | 第16页 |
| ·液晶光开关 | 第16-17页 |
| ·全息光开关 | 第17-18页 |
| ·磁光开关 | 第18-19页 |
| ·论文研究内容 | 第19-21页 |
| 第二章 石榴石薄膜的制备及性能分析 | 第21-38页 |
| ·石榴石材料概述 | 第21-22页 |
| ·石榴石薄膜材料制备方法 | 第22-25页 |
| ·物理方法 | 第22-23页 |
| ·溅射(sputter) | 第22-23页 |
| ·脉冲激光沉积(PLD) | 第23页 |
| ·化学方法 | 第23-24页 |
| ·溶胶凝胶法（SOL-GEL） | 第23-24页 |
| ·化学气相沉积法(CVD) | 第24页 |
| ·物理化学方法 | 第24-25页 |
| ·磁控溅射法制备YIG 薄膜及其结果分析 | 第25-33页 |
| ·磁控溅射法的基本原理 | 第25页 |
| ·射频磁控溅射的工艺过程 | 第25-28页 |
| ·靶材的制备 | 第26-27页 |
| ·溅射工艺及其制备参数 | 第27-28页 |
| ·制备条件对石榴石薄膜结构的影响 | 第28-29页 |
| ·基片温度对薄膜结构的影响 | 第28页 |
| ·溅射功率对薄膜结构的影响 | 第28-29页 |
| ·溅射气氛对薄膜结构的影响 | 第29页 |
| ·基片和靶材距离对薄膜结构的影响 | 第29页 |
| ·BI：YIG 薄膜的成相分析 | 第29-31页 |
| ·BI：YIG 薄膜的晶化分析 | 第31页 |
| ·BI：YIG 薄膜的磁性能分析 | 第31-32页 |
| ·不同退火温度磁滞回线 | 第31-32页 |
| ·不同退火时间磁滞回线 | 第32页 |
| ·BI：YIG 薄膜的磁光性能分析 | 第32-33页 |
| ·液相外延法制备稀土铁石榴石薄膜及其结果分析 | 第33-38页 |
| ·液相外延生长法 | 第33-35页 |
| ·化学组分和相关系 | 第33-34页 |
| ·液相外延工艺 | 第34-35页 |
| ·液相外延生长稀土铁石榴石薄膜结果分析 | 第35-38页 |
| ·XRD 测试 | 第35页 |
| ·磁性能分析 | 第35-36页 |
| ·磁光法拉第效应 | 第36-37页 |
| ·光吸收性能分析 | 第37-38页 |
| 第三章 波导型磁光开关原理分析及设计 | 第38-49页 |
| ·法拉第磁光效应原理及应用 | 第38-42页 |
| ·法拉第磁光效应原理 | 第38-40页 |
| ·法拉第磁光效应应用 | 第40页 |
| ·基于法拉第磁光效应的磁光器件 | 第40-42页 |
| ·磁光薄膜波导结构、原理分析及功率转换效率模拟 | 第42-46页 |
| ·磁光薄膜波导结构 | 第42-43页 |
| ·磁光薄膜波导的分析 | 第43-44页 |
| ·功率转换效率模拟 | 第44-46页 |
| ·波导型磁光开关原理分析及模型 | 第46-49页 |
| ·基本原理 | 第46-48页 |
| ·模型分析 | 第48-49页 |
| 第四章 波导型磁光开关的制作及测试 | 第49-61页 |
| ·器件的结构 | 第49页 |
| ·平面波导的制作 | 第49-50页 |
| ·棱镜耦合法 | 第50-51页 |
| ·器件光路图 | 第51-52页 |
| ·磁场的确定 | 第52-54页 |
| ·脉冲电流的产生 | 第54-55页 |
| ·器件的加工、制作 | 第55-56页 |
| ·测试结果 | 第56-60页 |
| ·测试系统建立 | 第56-57页 |
| ·测试结果及性能分析 | 第57-60页 |
| ·小结 | 第60-61页 |
| 第五章 结论 | 第61-62页 |
| 致谢 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-67页 |
| 攻硕期间取得的成果 | 第67-68页 |
