NiO薄膜制备及特性研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 目录 | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-12页 |
| ·透明导电薄膜的研究现状 | 第7-8页 |
| ·透明导电薄膜的应用 | 第8-9页 |
| ·透明导电薄膜的发展方向 | 第9-10页 |
| ·本论文的研究意义和主要研究内容 | 第10-12页 |
| 第二章 NiO薄膜性质和制备技术 | 第12-21页 |
| ·NiO薄膜性质 | 第12-14页 |
| ·NiO薄膜的制备技术 | 第14-21页 |
| 第三章 射频磁控溅射法制备NiO薄膜 | 第21-30页 |
| ·磁控溅射法原理 | 第21-22页 |
| ·磁控溅射特点 | 第22页 |
| ·NiO陶瓷靶的制备 | 第22-23页 |
| ·磁控溅射法制备NiO薄膜 | 第23-26页 |
| ·NiO成膜过程 | 第26页 |
| ·生长工艺参数对NiO薄膜的影响 | 第26-27页 |
| ·NiO薄膜性质表征手段 | 第27-30页 |
| 第四章 溅射电压对NiO薄膜性质的影响 | 第30-35页 |
| ·溅射电压对NiO薄膜结构的影响 | 第30-31页 |
| ·溅射电压对NiO薄膜光学透过率的影响 | 第31-32页 |
| ·溅射电压对NiO薄膜光学带隙的影响 | 第32-33页 |
| ·溅射电压对NiO电学特性的影响 | 第33-35页 |
| 第五章 氧氩比对NiO薄膜性质的影响 | 第35-39页 |
| ·氧氩比对NiO薄膜结构特性的影响 | 第35-36页 |
| ·氧氩比对NiO薄膜光学透过率的影响 | 第36-37页 |
| ·氧氩比对NiO薄膜光学带隙的影响 | 第37-38页 |
| ·氧氩比对NiO薄膜电学特性的影响 | 第38-39页 |
| 第六章 退火对NiO薄膜性质影响的初步探讨 | 第39-42页 |
| ·退火对NiO薄膜结构特性的影响 | 第39页 |
| ·退火对NiO薄膜光学透过率的影响 | 第39-40页 |
| ·退火对NiO薄膜光学带隙的影响 | 第40页 |
| ·退火对NiO薄膜电学特性的影响 | 第40-42页 |
| 结论 | 第42-43页 |
| 致谢 | 第43-44页 |
| 参考文献 | 第44-46页 |
