380nm-570nm短波通滤光片的设计与制备研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-11页 |
| ·引言 | 第8页 |
| ·短波通滤波片的发展现状 | 第8-9页 |
| ·研究目的 | 第9-11页 |
| 第二章 薄膜光学的基本理论 | 第11-25页 |
| ·电磁理论基础 | 第11-15页 |
| ·麦克斯韦方程组 | 第11页 |
| ·光学导纳 | 第11-14页 |
| ·边界条件 | 第14-15页 |
| ·薄膜反射率和透射率的计算 | 第15-19页 |
| ·菲涅尔公式 | 第15-17页 |
| ·单层介质薄膜的反射率 | 第17-18页 |
| ·多层薄膜的特性计算 | 第18-19页 |
| ·对称膜系的等效层 | 第19-21页 |
| ·通带的计算 | 第21-25页 |
| ·通带波纹的压缩 | 第22-23页 |
| ·通带的展宽 | 第23-25页 |
| 第三章 滤波片的膜系设计 | 第25-35页 |
| ·膜料的要求和选择 | 第25-29页 |
| ·对材料的基本要求 | 第25页 |
| ·镀膜材料的性质 | 第25-27页 |
| ·膜料实际参数的测定 | 第27-29页 |
| ·膜系设计 | 第29-35页 |
| 第四章 滤波片的镀制 | 第35-48页 |
| ·真空镀膜机的工作原理及影响 | 第35-38页 |
| ·真空系统 | 第35页 |
| ·蒸发技术 | 第35-37页 |
| ·离子辅助沉积技术 | 第37页 |
| ·科夫曼离子源 | 第37-38页 |
| ·膜厚监控技术 | 第38-40页 |
| ·光学监控法 | 第38-39页 |
| ·石英晶振法 | 第39-40页 |
| ·基片的镀前处理 | 第40-41页 |
| ·短波通滤波片镀制的工艺过程 | 第41-42页 |
| ·光谱检测系统 | 第42-43页 |
| ·滤波片的测试 | 第43-48页 |
| 第五章 误差分析 | 第48-51页 |
| ·光学不稳定性 | 第48页 |
| ·厚度监控装备误差 | 第48-49页 |
| ·极值法引起的膜厚误差 | 第49页 |
| ·定值法所产生的膜厚误差 | 第49页 |
| ·色散误差 | 第49-50页 |
| ·测量误差 | 第50-51页 |
| 总结 | 第51-52页 |
| 致谢 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-54页 |
