氮化硅波导色散设计及低热灵敏度光交叉波分复用器的制备
| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 1 绪论 | 第8-22页 |
| 1.1 引言 | 第8-12页 |
| 1.2 氮化硅光子学平台研究现状 | 第12-14页 |
| 1.3 氮化硅光子器件研究现状 | 第14-20页 |
| 1.4 本论文的主要研究内容 | 第20-22页 |
| 2 氮化硅基波导器件的理论基础 | 第22-37页 |
| 2.1 引言 | 第22页 |
| 2.2 时域有限差分法 | 第22-24页 |
| 2.3 定向耦合器的理论基础 | 第24-26页 |
| 2.4 多模干涉耦合器的理论基础 | 第26-30页 |
| 2.5 微环谐振器的理论基础 | 第30-36页 |
| 2.6 本章小结 | 第36-37页 |
| 3 氮化硅薄膜生长及器件制备 | 第37-54页 |
| 3.1 引言 | 第37页 |
| 3.2 氮化硅薄膜的制备方法介绍 | 第37-40页 |
| 3.3 PECVD制备氮化硅薄膜工艺研究 | 第40-45页 |
| 3.4 氮化硅光子器件的制备 | 第45-53页 |
| 3.5 本章小结 | 第53-54页 |
| 4 平坦色散氮化硅波导的设计 | 第54-64页 |
| 4.1 引言 | 第54-55页 |
| 4.2 平坦色散波导结构的设计 | 第55-59页 |
| 4.3 波导结构参数对色散的影响 | 第59-62页 |
| 4.4 相位匹配条件 | 第62-63页 |
| 4.5 本章小结 | 第63-64页 |
| 5 氮化硅低热灵敏度光交叉波分复用器 | 第64-75页 |
| 5.1 引言 | 第64-65页 |
| 5.2 光交叉波分复用器的原理 | 第65-68页 |
| 5.3 二氧化硅包层器件的制备及测试 | 第68-70页 |
| 5.4 PMMA包层器件的制备及测试 | 第70-74页 |
| 5.5 本章小结 | 第74-75页 |
| 6 总结与展望 | 第75-78页 |
| 致谢 | 第78-80页 |
| 参考文献 | 第80-89页 |
| 附录1 攻读硕士学位期间发表论文目录 | 第89页 |
