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a-SiO2/Si界面建模方法及在超薄栅MOS器件光电特性研究中的应用

摘要第5-7页
ABSTRACT第7-8页
第一章 绪论第11-17页
    1.1 研究背景及研究意义第11-12页
    1.2 国内外研究现状第12-14页
    1.3 发展态势第14-15页
    1.4 论文的主要研究内容及安排第15-17页
第二章 SiO_2/Si建模方法及仿真计算的基本原理第17-35页
    2.1 SiO_2/Si界面结构特性第17-20页
        2.1.1 界面附近的化学组成第17-18页
        2.1.2 SiO_2/Si界面处原子成键缺陷第18-20页
    2.2 建立SiO_2/Si模型常用的方法第20-21页
    2.3 分子动力学理论第21-23页
        2.3.1 分子动力学仿真时的系综选择第22页
        2.3.2 分子动力学仿真的边界条件第22-23页
    2.4 密度泛函理论第23-30页
        2.4.1 Born-Oppenheimer近似第24页
        2.4.2 Hartree-Fock近似第24-26页
        2.4.3 Hohenberg-Kohn定理第26页
        2.4.4 Kohn-Sham方程第26-28页
        2.4.5 交换相关能泛函第28-30页
    2.5 K-S方程求解的思路、方法、及关键参数分析第30-33页
        2.5.1 第一性原理计算的自洽求解第30-31页
        2.5.2 平面波形式表述K-S方程第31页
        2.5.3 截断能第31页
        2.5.4 k-point取样第31-32页
        2.5.5 赝势第32-33页
    2.6 本文使用的相关仿真软件第33-34页
    2.7 本章小结第34-35页
第三章 a-SiO_2/Si界面建模方法研究第35-49页
    3.1 a-SiO_2/Si界面的建模要求第35页
    3.2 分子动力学仿真建立非晶SiO_2第35-37页
        3.2.1 高温分子动力学仿真过程中温度的影响第36-37页
        3.2.2 淬火时间的影响第37页
    3.3 SiO_2/Si界面拓扑结构分析及设计第37-40页
    3.4 建立a-SiO_2/Si模型的思路及流程第40-41页
    3.5 优化结构及计算性质过程中参数的优化第41-46页
        3.5.1 平面波赝势求解K-S方程时赝势的选择第42页
        3.5.2 交换相关能泛函近似的影响第42-43页
        3.5.3 截断能的影响第43-44页
        3.5.4 k-point设置的影响第44-45页
        3.5.5 界面拓扑结构对a-SiO_2/Si结构稳定性的影响第45-46页
    3.6 建立a-SiO_2/Si模型时需要注意的问题第46-48页
    3.7 本章小结第48-49页
第四章 界面结构对超薄栅MOS器件光电特性的影响第49-74页
    4.1 c-SiO_2/Si(001)模型与a-SiO_2/Si(001)模型的对比研究第49-54页
        4.1.1 模型稳定性第50页
        4.1.2 过渡区中亚氧化硅的键长键角分布第50-51页
        4.1.3 能带结构与电子态密度第51-52页
        4.1.4 光学性质第52-54页
    4.2 界面缺陷对超薄栅MOS器件光电特性的影响第54-68页
        4.2.1 带有成键缺陷的a-SiO_2/Si(001)界面模型第54-56页
        4.2.2 缺陷对a-SiO_2/Si(001)界面稳定性的影响第56-57页
        4.2.3 缺陷对a-SiO_2/Si(001)结构光电性质的影响第57-63页
        4.2.4 缺陷对c-SiO_2/Si和a-SiO_2/Si结构光电特性影响的对比第63-68页
    4.3 界面过渡区对超薄栅Si基MOS器件可靠性的影响第68-73页
        4.3.1 界面过渡区对SiO_2/Si界面稳定性的影响第68-69页
        4.3.2 界面过渡区对超薄栅MOS器件栅泄漏电流的影响第69-73页
    4.4 本章小结第73-74页
第五章 结论与展望第74-77页
致谢第77-78页
参考文献第78-84页
攻读硕士学位期间取得的成果第84-85页

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