| 摘要 | 第5-6页 |
| abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-17页 |
| 1.1 研究工作的背景与意义 | 第10-11页 |
| 1.2 太赫兹辐射源和太赫兹回旋管研究现状 | 第11-13页 |
| 1.3 磁控注入式电子枪的发展概况 | 第13-15页 |
| 1.4 本论文的结构安排 | 第15-17页 |
| 第二章 电子光学系统理论分析 | 第17-32页 |
| 2.1 电子光学系统的基本方程 | 第17-20页 |
| 2.2 电子光学系统静电场分析和静磁场分析 | 第20-24页 |
| 2.2.1 静电场分析 | 第20-22页 |
| 2.2.2 静磁场分析 | 第22-24页 |
| 2.3 电子运动方程和电子轨迹方程 | 第24-26页 |
| 2.3.1 电子运动方程 | 第24-25页 |
| 2.3.2 电子轨迹方程 | 第25-26页 |
| 2.4 自洽方程组 | 第26-27页 |
| 2.5 磁控注入式电子枪基本理论与分析 | 第27-31页 |
| 2.5.1 磁控注入式电子枪中的电子运动 | 第27-29页 |
| 2.5.2 磁控注入式电子枪中的绝热压缩 | 第29-30页 |
| 2.5.3 磁控注入式电子枪中的性能参数 | 第30-31页 |
| 2.6 本章小结 | 第31-32页 |
| 第三章 磁控注入式电子枪的设计优化与应用 | 第32-55页 |
| 3.1 磁控注入式电子枪的初始设计 | 第32-37页 |
| 3.2 0.46 THZ磁控注入式电子枪的结构设计与结果分析 | 第37-43页 |
| 3.2.1 磁控注入式电子枪的设计与模拟 | 第37-41页 |
| 3.2.2 磁控注入式电子枪的结果分析 | 第41-43页 |
| 3.3 对0.46THZ电子枪电子注质量分析 | 第43-47页 |
| 3.3.1 工作电压与磁场强度对速度比和速度离散的影响 | 第44-45页 |
| 3.3.2 工作电压与磁场强度对回旋半径离散的影响 | 第45-47页 |
| 3.4 分析影响电子注性能的因素 | 第47-53页 |
| 3.4.1 阴极半径Rc对电子注性能的影响 | 第47-49页 |
| 3.4.2 阴阳极间距dac对电子注性能的影响 | 第49页 |
| 3.4.3 控制阳极电压Uc对电子注性能的影响 | 第49-50页 |
| 3.4.4 两阳极间距d对电子注性能的影响 | 第50-51页 |
| 3.4.5 控制阳极L1对电子注性能的影响 | 第51-52页 |
| 3.4.6 控制阳极L2对电子注性能的影响 | 第52-53页 |
| 3.5 本章小结 | 第53-55页 |
| 第四章 0.42THz和0.263THz电子枪设计与优化 | 第55-63页 |
| 4.1 0.42 THZ与0.263THZ磁控注入式电子枪的场与能量分布 | 第55-57页 |
| 4.2 0.42 THZ与0.263THZ磁控注入式电子枪的设计与优化 | 第57-62页 |
| 4.3 本章小结 | 第62-63页 |
| 第五章 全文总结与展望 | 第63-65页 |
| 5.1 全文总结 | 第63页 |
| 5.2 后续工作展望 | 第63-65页 |
| 致谢 | 第65-66页 |
| 参考文献 | 第66-69页 |
