| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-17页 |
| 1.1 研究背景 | 第10页 |
| 1.2 研究意义 | 第10-11页 |
| 1.3 国内外发展状况 | 第11-15页 |
| 1.3.1 纳米激光器发展 | 第11-12页 |
| 1.3.1.1 纳米激光器的数值仿真 | 第11页 |
| 1.3.1.2 光泵浦纳米线激光器 | 第11页 |
| 1.3.1.3 电注入纳米线激光器 | 第11-12页 |
| 1.3.2 纳米等离子体激光器发展 | 第12-15页 |
| 1.3.2.1 表面等离子体-光场模式混合纳米激光器 | 第12-14页 |
| 1.3.2.2 金属纳米腔体半导体异质结等离子体激光器 | 第14页 |
| 1.3.2.3 亚波长金属-介质-半导体等离子体激光器 | 第14-15页 |
| 1.4 本论文主要工作与结构安排 | 第15-16页 |
| 1.5 本章小结 | 第16-17页 |
| 第二章 基于表面等离子体的纳米激光器相关理论及模型仿真 | 第17-29页 |
| 2.1 纳米等离子体激光器基本原理 | 第17-21页 |
| 2.1.1 氧化锌纳米激光器基本原理 | 第17-19页 |
| 2.1.2 等离子体纳米激光器理论 | 第19-21页 |
| 2.2 激光器光束准直原理与设计计算 | 第21-22页 |
| 2.3 基于表面等离子体的光学谐振腔与光束相干合成仿真 | 第22-28页 |
| 2.3.1 模型概述 | 第22-23页 |
| 2.3.2 仿真结果及分析 | 第23-25页 |
| 2.3.3 阵列化纳米线相干合成仿真 | 第25-28页 |
| 2.4 本章小结 | 第28-29页 |
| 第三章 纳米等离子体激光器关键工艺研究 | 第29-47页 |
| 3.1 氧化锌纳米线阵列生长制备工艺研究 | 第29-34页 |
| 3.1.1 氧化锌纳米线生长制备工艺研究 | 第29-32页 |
| 3.1.2 阵列化氧化锌纳米线工艺研究 | 第32-34页 |
| 3.2 镀膜工艺研究 | 第34-38页 |
| 3.2.1 磁控溅射法镀膜 | 第34-36页 |
| 3.2.2 化学气相沉积法镀膜 | 第36-37页 |
| 3.2.3 光化学还原法镀膜 | 第37-38页 |
| 3.3 微透镜阵列制作工艺研究 | 第38-43页 |
| 3.3.1 紫外光刻及热熔工艺 | 第38-42页 |
| 3.3.2 反应离子束刻蚀工艺 | 第42-43页 |
| 3.4 封装工艺研究 | 第43-45页 |
| 3.5 本章小结 | 第45-47页 |
| 第四章 激光器关键性能测试 | 第47-57页 |
| 4.1 p-GaN/n-ZnO结构的p-n结特性测试 | 第47-48页 |
| 4.2 纳米激光器光泵浦发光性能测试 | 第48页 |
| 4.3 纳米等离子体激光器光泵浦发光性能测试 | 第48-52页 |
| 4.4 纳米激光器电泵浦发光性能测试 | 第52-56页 |
| 4.4.1 光谱测试 | 第52-53页 |
| 4.4.2 功率测试 | 第53-54页 |
| 4.4.3 偏振特性测试 | 第54-55页 |
| 4.4.4 微透镜阵列光束准直效果对比测试 | 第55-56页 |
| 4.5 本章小结 | 第56-57页 |
| 第五章 总结与展望 | 第57-59页 |
| 5.1 本论文主要贡献 | 第57-58页 |
| 5.2 下一步工作展望 | 第58-59页 |
| 致谢 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-63页 |
| 攻硕期间取得的研究成果 | 第63-64页 |
