铟锡氧化物靶材的制备
| 学位论文数据 | 第3-4页 |
| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 目录 | 第8-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-34页 |
| 1.1 前言 | 第10-11页 |
| 1.2 ITO薄膜 | 第11-18页 |
| 1.2.1 ITO薄膜的性能与特点 | 第11-14页 |
| 1.2.2 ITO薄膜的产业化应用 | 第14-16页 |
| 1.2.3 ITO薄膜的制备方法 | 第16-18页 |
| 1.3 ITO靶材 | 第18-31页 |
| 1.3.1 制备高质量的ITO靶材的意义 | 第18-19页 |
| 1.3.2 ITO靶材的制备技术 | 第19-26页 |
| 1.3.3 ITO靶材的热压致密化机理 | 第26-31页 |
| 1.4 课题的由来及需要解决的问题 | 第31-32页 |
| 1.5 本研究的主要内容 | 第32-34页 |
| 第二章 热压烧结法制备ITO靶材 | 第34-48页 |
| 2.1 前言 | 第34页 |
| 2.2 实验部分 | 第34-35页 |
| 2.2.1 实验原料及试剂 | 第34页 |
| 2.2.2 实验及测试设备 | 第34页 |
| 2.2.3 实验过程 | 第34-35页 |
| 2.3 实验结果与讨论 | 第35-46页 |
| 2.3.1 模具的选择 | 第35-36页 |
| 2.3.2 隔离材料的选择 | 第36-38页 |
| 2.3.3 降温速率对ITO靶材相组成的影响 | 第38-42页 |
| 2.3.4 烧结工艺的优化 | 第42-45页 |
| 2.3.5 ITO靶材的检测 | 第45-46页 |
| 2.4 本章小结 | 第46-48页 |
| 第三章 烧结法制备ITO靶材 | 第48-52页 |
| 3.1 前言 | 第48页 |
| 3.2 实验部分 | 第48-49页 |
| 3.2.1 实验装置及试剂 | 第48页 |
| 3.2.2 实验过程 | 第48-49页 |
| 3.3 实验结果与讨论 | 第49-51页 |
| 3.3.1 固相烧结理论 | 第49-50页 |
| 3.3.2 烧结助剂对靶材致密化的影响 | 第50页 |
| 3.3.3 氧气氛对烧结过程的作用 | 第50-51页 |
| 3.4 本章小结 | 第51-52页 |
| 第四章 结论 | 第52-54页 |
| 全文主要结论 | 第52页 |
| 展望 | 第52-54页 |
| 参考文献 | 第54-58页 |
| 致谢 | 第58-59页 |
| 研究成果及发表的学术论文 | 第59-60页 |
| 作者和导师简介 | 第60-61页 |
| 附件 | 第61-62页 |
