| 摘要 | 第6-9页 |
| ABSTRACT | 第9-12页 |
| 第一章 绪论 | 第17-35页 |
| 1.1 引言 | 第17页 |
| 1.2 半导体纳米材料的研究进展 | 第17-20页 |
| 1.2.1 半导体纳米材料的分类 | 第17-18页 |
| 1.2.2 半导体纳米材料的基本特性 | 第18-20页 |
| 1.2.3 半导体纳米材料的应用 | 第20页 |
| 1.3 稀磁半导体的研究进展 | 第20-21页 |
| 1.3.1 稀磁半导体的概念 | 第20页 |
| 1.3.2 稀磁半导体的研究进展 | 第20-21页 |
| 1.4 锌基半导体材料研究进展 | 第21-28页 |
| 1.4.1 ZnO纳米材料研究进展 | 第21-25页 |
| 1.4.2 ZnFe_2O_4纳米材料研究进展 | 第25-28页 |
| 1.5 锌基半导体材料掺杂改性 | 第28-33页 |
| 1.5.1 ZnO纳米材料掺杂改性 | 第28-32页 |
| 1.5.2 ZnFe_2O_4纳米材料掺杂改性 | 第32-33页 |
| 1.6 课题的研究背景、内容及目的和意义 | 第33-35页 |
| 第二章 样品的制备和表征 | 第35-40页 |
| 2.1 引言 | 第35页 |
| 2.2 实验材料来源及制备仪器 | 第35-36页 |
| 2.2.1 实验材料来源 | 第35-36页 |
| 2.2.2 制备仪器 | 第36页 |
| 2.3 样品的制备 | 第36-38页 |
| 2.3.1 溶胶-凝胶法 | 第36-37页 |
| 2.3.2 水热法 | 第37页 |
| 2.3.3 磁控溅射法 | 第37-38页 |
| 2.4 样品表征手段 | 第38-40页 |
| 2.4.1 X射线衍射仪分析 | 第38页 |
| 2.4.2 扫描电镜分析 | 第38页 |
| 2.4.3 X射线光电子能谱分析 | 第38-39页 |
| 2.4.4 振动样品磁强计分析 | 第39页 |
| 2.4.5 光致发光光谱 | 第39页 |
| 2.4.6 紫外可见分光光度计(UV-Vis) | 第39-40页 |
| 第三章 Cu、Co共掺杂ZnO薄膜体系研究 | 第40-54页 |
| 3.1 引言 | 第40-41页 |
| 3.2 衬底曲率对Cu、Co共掺杂ZnO薄膜结构和光学特性的影响 | 第41-46页 |
| 3.2.1 实验过程 | 第41页 |
| 3.2.2 Cu、Co共掺杂ZnO稀磁半导体薄膜的XRD分析 | 第41-43页 |
| 3.2.3 Cu、Co共掺杂ZnO稀磁半导体薄膜的光吸收光谱分析 | 第43-45页 |
| 3.2.4 Cu、Co共掺杂ZnO稀磁半导体薄膜的光致发光分析 | 第45-46页 |
| 3.3 Cu浓度对Cu、Co共掺杂ZnO多层膜结构和磁学特性的影响 | 第46-52页 |
| 3.3.1 实验过程 | 第46页 |
| 3.3.2 Cu、Co共掺杂ZnO多层膜的XRD分析 | 第46-47页 |
| 3.3.3 Cu、Co共掺杂ZnO多层膜的AFM分析 | 第47-48页 |
| 3.3.4 Cu、Co共掺杂ZnO多层膜的XPS分析 | 第48-50页 |
| 3.3.5 Cu、Co共掺杂ZnO多层膜的VSM分析 | 第50-51页 |
| 3.3.6 Cu、Co共掺杂ZnO多层膜的光吸收光谱分析 | 第51-52页 |
| 3.4 本章小结 | 第52-54页 |
| 第四章 Cu、Co及Cu、Al共掺杂ZnO颗粒体系研究 | 第54-70页 |
| 4.1 引言 | 第54-55页 |
| 4.2 Co掺杂对ZnCuO稀磁半导体纳米颗粒结构和性质的影响 | 第55-59页 |
| 4.2.1 实验过程 | 第55页 |
| 4.2.2 Cu、Co共掺杂ZnO稀磁半导体纳米颗粒的XRD分析 | 第55-56页 |
| 4.2.3 Cu、Co共掺杂ZnO稀磁半导体纳米颗粒的XPS分析 | 第56-57页 |
| 4.2.4 Cu、Co共掺杂ZnO稀磁半导体纳米颗粒的PL分析 | 第57页 |
| 4.2.5 Cu、Co共掺杂ZnO稀磁半导体纳米颗粒的VSM分析 | 第57-59页 |
| 4.3 烧结温度对Zn_(0.98)Cu_(0.01)Co_(0.01)O结构和性质的影响 | 第59-62页 |
| 4.3.1 实验过程 | 第59页 |
| 4.3.2 不同热处理温度对Zn_(0.98)Cu_(0.01)Co_(0.01)O样品结构的影响 | 第59-60页 |
| 4.3.3 不同热处理温度对Zn_(0.98)Cu_(0.01)Co_(0.01)O样品光学性质的影响 | 第60-61页 |
| 4.3.4 不同热处理温度对Zn_(0.98)Cu_(0.01)Co_(0.01)O样品磁学性质的影响 | 第61-62页 |
| 4.4 烧结温度对Zn_(0.97)Cu_(0.02)Al_(0.01)O结构和性质的影响 | 第62-65页 |
| 4.4.1 实验过程 | 第62页 |
| 4.4.2 不同热处理温度对Zn_(0.97)Cu_(0.02)Al_(0.01)O样品结构的影响 | 第62-64页 |
| 4.4.3 不同热处理温度对Zn_(0.97)Cu_(0.02)Al_(0.01)O样品光学性质的影响 | 第64页 |
| 4.4.4 不同热处理温度对Zn_(0.97)Cu_(0.02)Al_(0.01)O样品磁学性质的影响 | 第64-65页 |
| 4.5 烧结气氛对Zn_(0.97)Cu_(0.02)Al_(0.01)O结构和性质的影响 | 第65-68页 |
| 4.5.1 实验过程 | 第65页 |
| 4.5.2 烧结气氛对Zn_(0.97)Cu_(0.02)Al_(0.01)O结构的影响 | 第65-67页 |
| 4.5.3 烧结气氛对Zn_(0.97)Cu_(0.03)Al_(0.01)O光学性质的影响 | 第67-68页 |
| 4.5.4 烧结气氛对Zn_(0.97)Cu_(0.03)Al_(0.01)O磁学性质的影响 | 第68页 |
| 4.6 本章小结 | 第68-70页 |
| 第五章 Eu~(3+)和Y~(3+)掺杂对ZnO纳米结构光学性能的影响 | 第70-90页 |
| 5.1 引言 | 第70页 |
| 5.2 ZnO：Eu~(3+)石墨烯状纳米薄片的制备及光学性能研究 | 第70-81页 |
| 5.2.1 ZnO：Eu~(3+)石墨烯状纳米薄片的制备 | 第70-71页 |
| 5.2.2 ZnO：Eu~(3+)石墨烯状纳米薄片的结构表征 | 第71-75页 |
| 5.2.3 ZnO：Eu~(3+)石墨烯状纳米薄片的光学性能研究 | 第75-77页 |
| 5.2.4 ZnO：Eu~(3+)石墨烯状纳米薄片的发光机制 | 第77-81页 |
| 5.3 Y~(3+)掺杂对ZnO纳米颗粒的结构及光学性能的影响 | 第81-88页 |
| 5.3.1 Y~(3+)掺杂对ZnO纳米颗粒的制备 | 第81页 |
| 5.3.2 ZnO：Y~(3+)纳米颗粒的结构表征 | 第81-85页 |
| 5.3.3 Y~(3+)掺杂对ZnO纳米颗粒的光学性能的影响 | 第85-88页 |
| 5.4 本章小结 | 第88-90页 |
| 第六章 Eu~(3+)和Nd~(3+)掺杂对ZnFe_2O_4纳米颗粒磁性的影响 | 第90-102页 |
| 6.1 引言 | 第90页 |
| 6.2 样品制备及其表征方法 | 第90-91页 |
| 6.3 Eu~(3+)掺杂浓度对ZnFe_2O_4纳米颗粒结构和磁性的影响 | 第91-96页 |
| 6.4 烧结温度对ZnFe_(1.97)Eu_(0.03)O_4纳米颗粒结构和磁性的影响 | 第96-97页 |
| 6.5 Eu~(3+)和Nd~(3+)掺杂对ZnFe_2O_4纳米颗粒结构和磁性的影响 | 第97-101页 |
| 6.6 本章小结 | 第101-102页 |
| 第七章 结论、创新点及进一步工作建议 | 第102-105页 |
| 7.1 结论 | 第102-103页 |
| 7.2 创新点 | 第103页 |
| 7.3 进一步工作建议 | 第103-105页 |
| 参考文献 | 第105-125页 |
| 致谢 | 第125-126页 |
| 在学期间发表的学术论文及其他科研成果 | 第126-127页 |
