| 摘要 | 第3-5页 |
| ABSTRACT | 第5-7页 |
| 目录 | 第8-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-26页 |
| 1.1 引言 | 第10页 |
| 1.2 Cu_2O 概述 | 第10-18页 |
| 1.2.1 Cu_2O 的常用制备方法 | 第10-16页 |
| 1.2.2 Cu_2O 的性质及应用 | 第16-18页 |
| 1.3 Cu_2O 光催化技术 | 第18-23页 |
| 1.3.1 半导体光催化机理 | 第18-19页 |
| 1.3.2 影响 Cu_2O 光催化性能的主要因素 | 第19-23页 |
| 1.4 选题依据、研究意义和主要内容 | 第23-26页 |
| 1.4.1 本文的选题依据和研究意义 | 第23页 |
| 1.4.2 本文的主要内容 | 第23-26页 |
| 第二章 高对称 Cu_2O 系列多面体的制备 | 第26-36页 |
| 2.1 实验准备 | 第26-27页 |
| 2.1.1 实验试剂及仪器 | 第26页 |
| 2.1.2 样品表征 | 第26-27页 |
| 2.2 实验方法及过程 | 第27页 |
| 2.3 Cu_2O 的表征及结果讨论 | 第27-35页 |
| 2.3.1 反应温度对形貌的影响 | 第27-28页 |
| 2.3.2 反应时间对形貌的影响 | 第28-29页 |
| 2.3.3 PVP 浓度对形貌的影响 | 第29-33页 |
| 2.3.4 还原剂对形貌尺寸的影响 | 第33-35页 |
| 2.4 本章小结 | 第35-36页 |
| 第三章 Cu_2O 凹面体及阶梯状 Cu_2O 多面体的制备 | 第36-48页 |
| 3.1 引言 | 第36-37页 |
| 3.2 氧刻蚀法制备 Cu_2O 凹面结构 | 第37-41页 |
| 3.2.1 实验方法及过程 | 第37页 |
| 3.2.2 结果与讨论 | 第37-41页 |
| 3.3 腐蚀液法制备阶梯状 Cu_2O 多面体 | 第41-46页 |
| 3.3.1 实验方法及过程 | 第41-42页 |
| 3.3.2 结果与讨论 | 第42-46页 |
| 3.4 本章小结 | 第46-48页 |
| 第四章 Cu_2O 多面体的光催化性能研究 | 第48-56页 |
| 4.1 引言 | 第48页 |
| 4.2 实验过程 | 第48页 |
| 4.3 高对称 Cu_2O 系列多面体的光催化性能研究 | 第48-52页 |
| 4.3.1 高对称 Cu_2O 微晶的光催化性能研究 | 第48-51页 |
| 4.3.2 高对称纳米 Cu_2O 光催化性能研究 | 第51-52页 |
| 4.4 阶梯状 Cu_2O 多面体的光催化性能研究 | 第52-54页 |
| 4.5 本章小结 | 第54-56页 |
| 第五章 总结与展望 | 第56-58页 |
| 5.1 本章总结 | 第56-57页 |
| 5.2 展望 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-68页 |
| 致谢 | 第68-70页 |
| 攻读硕士期间发表的论文及获得的成果 | 第70页 |
