基于稀疏约束的电磁场逆成像算法研究
| 摘要 | 第3-4页 |
| ABSTRACT | 第4-5页 |
| 第1章 绪论 | 第8-15页 |
| 1.1 研究背景及意义 | 第8-9页 |
| 1.2 研究现状 | 第9-14页 |
| 1.2.1 全数据散射场的逆散射方法 | 第10-13页 |
| 1.2.2 无相位散射场数据的逆散射方法 | 第13-14页 |
| 1.3 本文的研究工作以及章节安排 | 第14-15页 |
| 第2章 逆散射成像的理论基础 | 第15-30页 |
| 2.1 引言 | 第15-16页 |
| 2.2 逆散射问题的基本模型 | 第16-19页 |
| 2.3 对比源反演方法 | 第19-21页 |
| 2.4 子空间优化算法 | 第21-25页 |
| 2.5 数值结果分析 | 第25-29页 |
| 2.6 本章小结 | 第29-30页 |
| 第3章 混合成像方法 | 第30-38页 |
| 3.1 DSM线性算法 | 第30-32页 |
| 3.2 DSM-CSI混合成像方法及数值结果 | 第32-37页 |
| 3.3 本章小结 | 第37-38页 |
| 第4章 稀疏约束 | 第38-47页 |
| 4.1 二阶玻恩近似 | 第38-41页 |
| 4.2 基于稀疏约束的SP-SOBA | 第41-43页 |
| 4.3 数值结果分析 | 第43-45页 |
| 4.4 本章小结 | 第45-47页 |
| 第5章 全文总结与工作展望 | 第47-49页 |
| 5.1 全文总结 | 第47-48页 |
| 5.2 工作展望 | 第48-49页 |
| 致谢 | 第49-50页 |
| 参考文献 | 第50-54页 |
| 攻读学位期间的研究成果 | 第54页 |
