新型MPCVD装置制备高取向（100）金刚石膜的研究

摘要	第1-7页
Abstract	第7-9页
目录	第9-11页
第一章 绪论	第11-27页
·金刚石结构及其优越性能	第11-15页
·金刚石的结构	第11-13页
·金刚石的优越性能	第13-15页
·CVD金刚石膜的研究进展	第15-21页
·CVD金刚石膜沉积机理	第15-17页
·CVD金刚石膜制备技术的发展概况	第17-18页
·CVD金刚石膜的应用	第18-21页
·本课题研究目的和意义	第21-27页
第二章 新型MPCVD金刚石膜实验装置及表征方法	第27-35页
·新型MPCVD金刚石膜沉积装置	第27-32页
·微波系统	第28-30页
·气路系统	第30-31页
·真空及检测系统	第31-32页
·保护系统	第32页
·样品表征	第32-35页
·光学显微镜	第32-33页
·扫描电子显微镜	第33页
·激光拉曼光谱	第33-34页
·X射线衍射	第34-35页
第三章 (100)面金刚石膜的沉积工艺研究	第35-51页
·基片温度对(100)面取向金刚石膜的影响	第36-40页
·甲烷浓度对(100)面金刚石膜沉积的影响	第40-44页
·氧气对(100)面金刚石薄膜沉积的影响	第44-48页
·本章小结	第48-51页
第四章 工艺参数的优化及(100)金刚石膜的制备	第51-61页
·碳源浓度对CVD金刚石膜生长速率的影响	第51-55页
·高速沉积下氧气对CVD金刚石膜质量的影响	第55-58页
·本章小结	第58-61页
第五章 论文总结与展望	第61-63页
参考文献	第63-69页
硕士期间已发表论文	第69-71页
致谢	第71页