回旋离子束与CVD金刚石膜作用机理研究
| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-10页 |
| 目录 | 第10-12页 |
| 第1章 文献综述 | 第12-26页 |
| ·前言 | 第12页 |
| ·CVD金刚石膜的加工 | 第12-18页 |
| ·切割 | 第13页 |
| ·焊接 | 第13-14页 |
| ·刻蚀抛光 | 第14-18页 |
| ·等离子体刻蚀CVD金刚石膜 | 第18-23页 |
| ·直流等离子体 | 第19-20页 |
| ·电感耦合等离子体 | 第20-21页 |
| ·微波等离子体 | 第21-22页 |
| ·ECR等离子体 | 第22-23页 |
| ·本工作的主要意义和研究内容 | 第23-26页 |
| 第2章 实验设备、表征 | 第26-34页 |
| ·CVD金刚石膜制备装置 | 第26页 |
| ·CVD金刚石膜加工装置 | 第26-31页 |
| ·刻蚀装置 | 第26-31页 |
| ·机械抛光装置 | 第31页 |
| ·CVD金刚石膜的表征 | 第31-34页 |
| 第3章 回旋离子束的诊断及对金刚石膜的刻蚀 | 第34-42页 |
| ·引言 | 第34-35页 |
| ·离子参数的测量与优化 | 第35-37页 |
| ·金刚石膜的刻蚀和机械抛光 | 第37-40页 |
| ·本章小结 | 第40-42页 |
| 第4章 金刚石膜中的氮对刻蚀的影响 | 第42-56页 |
| ·引言 | 第42-43页 |
| ·未掺氮金刚石膜的刻蚀 | 第43-49页 |
| ·刻蚀前后表面形貌与粗糙度 | 第43-44页 |
| ·刻蚀机理分析 | 第44-49页 |
| ·掺氮金刚石膜的刻蚀 | 第49-53页 |
| ·掺氮金刚石膜的氮含量和键合结构 | 第49-50页 |
| ·刻蚀前后表面形貌和粗糙度 | 第50-52页 |
| ·刻蚀机理分析 | 第52-53页 |
| ·本章小结 | 第53-56页 |
| 第5章 影响刻蚀的其他因素研究 | 第56-68页 |
| ·引言 | 第56页 |
| ·磁场位形对刻蚀的影响 | 第56-60页 |
| ·气压对刻蚀的影响 | 第60-63页 |
| ·基片台温度对刻蚀的影响 | 第63-64页 |
| ·基片台大小对刻蚀的影响 | 第64-66页 |
| ·本章小结 | 第66-68页 |
| 第6章 论文总结与展望 | 第68-72页 |
| ·论文总结 | 第68-70页 |
| ·论文展望 | 第70-72页 |
| 参考文献 | 第72-80页 |
| 硕士期间发表的与课题相关的论文和专利 | 第80-82页 |
| 致谢 | 第82页 |
