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栅氧退化效应下SRAM软错误分析与加固技术研究

摘要第1-9页
ABSTRACT第9-10页
第一章 绪论第10-26页
   ·课题背景第10-18页
     ·软错误来源第10-14页
     ·软错误与栅氧退化效应第14-17页
     ·应用需求第17-18页
   ·相关研究第18-23页
     ·可靠性问题研究第18-20页
     ·模拟分析方法研究第20-23页
   ·论文的主要工作第23-24页
   ·论文的组织结构第24-26页
第二章 物理因素相关的可靠性问题第26-34页
   ·热载流子注入效应第26-27页
   ·负偏压温度不稳定效应第27-28页
   ·栅氧退化效应第28-31页
   ·总结第31-34页
第三章 栅氧退化效应下软错误分析第34-44页
   ·问题提出第34-35页
   ·模型解析第35-40页
     ·基本模型第35-37页
     ·数学推导第37-40页
   ·模拟分析第40-43页
     ·栅氧退化与软错误率的关系第40-42页
     ·不同工艺下栅氧退化的影响第42-43页
   ·小结第43-44页
第四章 栅氧退化效应下电压对软错误的影响第44-52页
   ·问题背景第44页
   ·趋势分析第44页
   ·模拟验证第44-50页
     ·同一工艺水平下模拟第44-47页
     ·不同工艺水平下模拟第47-50页
   ·小结第50-52页
第五章 抗栅氧退化效应的软错误加固方法研究第52-62页
   ·加固方法第52-55页
   ·电路原理第55-59页
     ·10T 单元加固方法第55-56页
     ·耦合电容加固方法第56-57页
     ·基于稳定结构的加固方法第57-59页
   ·模拟仿真第59-61页
   ·小结第61-62页
第六章 结束语第62-64页
   ·工作总结第62页
   ·工作展望第62-64页
致谢第64-66页
参考文献第66-71页
作者在学期间取得的学术成果第71页

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