栅氧退化效应下SRAM软错误分析与加固技术研究
| 摘要 | 第1-9页 |
| ABSTRACT | 第9-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-26页 |
| ·课题背景 | 第10-18页 |
| ·软错误来源 | 第10-14页 |
| ·软错误与栅氧退化效应 | 第14-17页 |
| ·应用需求 | 第17-18页 |
| ·相关研究 | 第18-23页 |
| ·可靠性问题研究 | 第18-20页 |
| ·模拟分析方法研究 | 第20-23页 |
| ·论文的主要工作 | 第23-24页 |
| ·论文的组织结构 | 第24-26页 |
| 第二章 物理因素相关的可靠性问题 | 第26-34页 |
| ·热载流子注入效应 | 第26-27页 |
| ·负偏压温度不稳定效应 | 第27-28页 |
| ·栅氧退化效应 | 第28-31页 |
| ·总结 | 第31-34页 |
| 第三章 栅氧退化效应下软错误分析 | 第34-44页 |
| ·问题提出 | 第34-35页 |
| ·模型解析 | 第35-40页 |
| ·基本模型 | 第35-37页 |
| ·数学推导 | 第37-40页 |
| ·模拟分析 | 第40-43页 |
| ·栅氧退化与软错误率的关系 | 第40-42页 |
| ·不同工艺下栅氧退化的影响 | 第42-43页 |
| ·小结 | 第43-44页 |
| 第四章 栅氧退化效应下电压对软错误的影响 | 第44-52页 |
| ·问题背景 | 第44页 |
| ·趋势分析 | 第44页 |
| ·模拟验证 | 第44-50页 |
| ·同一工艺水平下模拟 | 第44-47页 |
| ·不同工艺水平下模拟 | 第47-50页 |
| ·小结 | 第50-52页 |
| 第五章 抗栅氧退化效应的软错误加固方法研究 | 第52-62页 |
| ·加固方法 | 第52-55页 |
| ·电路原理 | 第55-59页 |
| ·10T 单元加固方法 | 第55-56页 |
| ·耦合电容加固方法 | 第56-57页 |
| ·基于稳定结构的加固方法 | 第57-59页 |
| ·模拟仿真 | 第59-61页 |
| ·小结 | 第61-62页 |
| 第六章 结束语 | 第62-64页 |
| ·工作总结 | 第62页 |
| ·工作展望 | 第62-64页 |
| 致谢 | 第64-66页 |
| 参考文献 | 第66-71页 |
| 作者在学期间取得的学术成果 | 第71页 |