磁过滤阴极弧等离子体非晶金刚石纳米尖点阵列制备及性能研究
| 中文摘要 | 第1-8页 |
| ABSTRACT | 第8-11页 |
| 第一章 理论介绍 | 第11-39页 |
| ·磁过滤阴极弧等离子体 | 第11-15页 |
| ·等离子体的概念 | 第11-13页 |
| ·阴极弧等离子体 | 第13-14页 |
| ·磁过滤技术 | 第14-15页 |
| ·氧化铝模板(AAO) | 第15-22页 |
| ·铝的氧化层类型 | 第15-16页 |
| ·"多孔型"氧化铝膜的形成机制 | 第16-17页 |
| ·"多孔型"氧化铝膜的生长机制讨论 | 第17-19页 |
| ·参数对模板生长的影响 | 第19-20页 |
| ·阳极氧化铝模板的应用 | 第20-22页 |
| ·低维半导体材料简介 | 第22-24页 |
| ·非晶金刚石简介 | 第24-30页 |
| ·非晶金刚石薄膜的结构 | 第26-27页 |
| ·非晶金刚石膜的sp~3/sp~2成分分析 | 第27页 |
| ·无氢非晶金刚石材料性能 | 第27-30页 |
| ·非晶金刚石薄膜的用途 | 第30页 |
| ·选题依据和研究思路 | 第30-33页 |
| ·选题依据 | 第30-32页 |
| ·研究思路 | 第32-33页 |
| 本章小结 | 第33-34页 |
| 参考文献 | 第34-39页 |
| 第二章 试验设备及过程描述 | 第39-50页 |
| ·磁过滤设备及其改进 | 第39-44页 |
| ·磁过滤沉积设备简介 | 第39-42页 |
| ·磁过滤设备的改进 | 第42-44页 |
| ·氧化铝模板的制备装置 | 第44-45页 |
| ·试验流程 | 第45-48页 |
| ·氧化铝模板制备 | 第45-47页 |
| ·非晶金刚石纳米尖点阵列沉积 | 第47-48页 |
| 本章小结 | 第48-49页 |
| 参考文献 | 第49-50页 |
| 第三章 数据分析 | 第50-86页 |
| ·数据分析方法简介 | 第50-55页 |
| ·试验结构分析 | 第55-82页 |
| ·AAO模板和非晶金刚石尖点阵列的形貌表征 | 第55-58页 |
| ·沉积参数对非晶金刚石纳米尖点阵列的影响 | 第58-70页 |
| ·样品的场发射测试 | 第70-75页 |
| ·掺杂对非晶金刚石尖点阵列的影响。 | 第75-82页 |
| 本章小结 | 第82-84页 |
| 参考文献 | 第84-86页 |
| 第四章 结论与展望 | 第86-89页 |
| 致谢 | 第89-90页 |
| 附录 | 第90-91页 |
| 博士期间发表的论文 | 第90-91页 |
| 博士期间获奖情况 | 第91页 |
