基于MEMS技术的光纤声传感器研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-7页 |
| 目录 | 第7-9页 |
| 第一章 引言 | 第9-33页 |
| ·声传感技术 | 第9-13页 |
| ·声传感器技术基础 | 第9-12页 |
| ·声传感器种类及发展概况 | 第12-13页 |
| ·超声波检测概述 | 第13-16页 |
| ·超声波检测技术发展及应用 | 第14-16页 |
| ·MEMS声传感技术 | 第16-21页 |
| ·MEMS技术概述 | 第16-18页 |
| ·MEMS微传声器种类及发展 | 第18-21页 |
| ·光纤声传感技术 | 第21-31页 |
| ·光纤传声器发展及应用 | 第22-28页 |
| ·MEMS光纤声传感器研究进展 | 第28-31页 |
| ·本文的主要工作 | 第31-33页 |
| ·本文的目的和意义 | 第31-32页 |
| ·论文内容 | 第32-33页 |
| 第二章 MEMS光纤声传感器设计理论 | 第33-50页 |
| ·F-P腔 MEMS光纤微声传感器光学理论基础 | 第33-42页 |
| ·多光束干涉效应 | 第34-37页 |
| ·F-P腔主要特性参数 | 第37-38页 |
| ·F-P腔声传感器件光学设计与模拟 | 第38-42页 |
| ·MEMS双面衍射光栅超声传感器光学设计 | 第42-50页 |
| ·利用光栅结构的MEMS器件 | 第42-45页 |
| ·MEMS光栅超声传感器设计 | 第45-46页 |
| ·光学特性分析 | 第46-50页 |
| 第三章 F-P腔 MEMS光纤微声传感器工艺制作 | 第50-74页 |
| ·F-P腔 MEMS光纤微声传感器结构设计 | 第50-56页 |
| ·敏感薄膜设计与模拟 | 第50-56页 |
| ·工艺制作及测试 | 第56-73页 |
| ·低表面粗糙度的硅刻蚀 | 第57-60页 |
| ·Pyrex玻璃深刻蚀工艺 | 第60-65页 |
| ·光学介质膜图形化工艺 | 第65-67页 |
| ·气压平衡设计 | 第67-68页 |
| ·器件工艺流程 | 第68-70页 |
| ·器件完成结果及测试分析 | 第70-73页 |
| ·本章小结 | 第73-74页 |
| 第四章 MEMS衍射光栅超声传感器工艺研究及制作 | 第74-89页 |
| ·MEMS光栅超声传感器设计 | 第74-78页 |
| ·光栅结构分析 | 第75-78页 |
| ·双面光栅结构器件工艺制作 | 第78-81页 |
| ·双面光栅的工艺制作流程 | 第79-81页 |
| ·器件测试和结果讨论 | 第81-89页 |
| 第五章 总结 | 第89-91页 |
| ·本论文的主要内容 | 第89-90页 |
| ·下一步工作的展望 | 第90-91页 |
| 参考文献 | 第91-95页 |
| 硕士期间发表文章 | 第95-96页 |
| 致谢 | 第96-97页 |
| 个人简历 | 第97-98页 |