| 第1章 绪论 | 第1-25页 |
| ·磁记录的发展历史及现状 | 第10-15页 |
| ·磁记录知识简介 | 第15-22页 |
| ·磁记录的写读过程 | 第15-16页 |
| ·磁记录磁头 | 第16-18页 |
| ·磁记录介质 | 第18-19页 |
| ·超高磁记录密度的要求 | 第19-22页 |
| ·信息存储技术的未来发展 | 第22-23页 |
| 参考文献 | 第23-25页 |
| 第2章 薄膜的制备及其性能的表征 | 第25-38页 |
| ·薄膜的制备 | 第25-26页 |
| ·基片的选择与清洗 | 第26页 |
| ·靶的准备 | 第26页 |
| ·薄膜的制备条件 | 第26页 |
| ·薄膜性能的表征 | 第26-36页 |
| ·膜厚的测定 | 第26-28页 |
| ·薄膜的成分分析 | 第28-29页 |
| ·薄膜表面形貌分析 | 第29-30页 |
| ·薄膜内部结构的分析 | 第30-31页 |
| ·薄膜晶体结构的分析 | 第31页 |
| ·薄膜磁学性能的测量 | 第31-36页 |
| 参考文献 | 第36-38页 |
| 第3章 FePt和FePt-Al_2O_3薄膜有序化温度的降低 | 第38-69页 |
| ·Fe-Pt二元合金简介 | 第38-45页 |
| ·Fe-Pt二元合金的相图和晶格结构 | 第38-40页 |
| ·FePt合金薄膜的化学长程有序化和磁性硬化过程 | 第40-43页 |
| ·FePt合金薄膜的研究现状 | 第43-45页 |
| ·FePt和 FePt-Al_2O_3薄膜溅射过程中的N_2添加效应 | 第45-53页 |
| ·FePt薄膜溅射过程中的N_2添加效应 | 第45-47页 |
| ·FePt-Al_2O_3薄膜溅射过程中的N_2添加效应 | 第47-53页 |
| ·原位有序制备的 FePt和 FePt-Al_2O_3薄膜 | 第53-66页 |
| ·原位有序的 FePt薄膜 | 第53-58页 |
| ·原位有序的FePt-Al_2O_3薄膜 | 第58-63页 |
| ·FePt和 FePt-Al_2O_3薄膜低温有序化机理 | 第63-66页 |
| 参考文献 | 第66-69页 |
| 第4章 FePt/Cr(W)薄膜 | 第69-91页 |
| ·(200)取向的Cr衬底的制备 | 第70-73页 |
| ·FePt(Cu)/Cr薄膜 | 第73-76页 |
| ·FePt/Cr薄膜 | 第73-75页 |
| ·FePtCu/Cr薄膜 | 第75-76页 |
| ·FePt/Mo/Cr薄膜 | 第76-78页 |
| ·FePt/Pt/CrW薄膜 | 第78-89页 |
| ·CrX薄膜的织构 | 第78-80页 |
| ·FePt/Pt/CrW薄膜 | 第80-89页 |
| 参考文献 | 第89-91页 |
| 第5章 Fe/Pt多层膜 | 第91-108页 |
| ·原位生长的 Fe/Pt多层膜 | 第91-94页 |
| ·沉积条件对薄膜微结构及磁性能的影响 | 第94-98页 |
| ·成分对薄膜微结构和磁性的影响 | 第94-95页 |
| ·单层厚度对薄膜微结构和磁性的影响 | 第95-96页 |
| ·总厚度对薄膜微结构和磁性的影响 | 第96-97页 |
| ·基片温度对薄膜微结构和磁性的影响 | 第97-98页 |
| ·原位生长的 Fe/Pt多层膜的热处理效应 | 第98-101页 |
| ·Fe/Pt多层膜的矫顽力机理和反磁化过程 | 第101-106页 |
| 参考文献 | 第106-108页 |
| 第6章 结论 | 第108-110页 |
| 博士期间发表文章 | 第110-111页 |
| 致谢 | 第111页 |
