| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 第1章 绪论 | 第8-18页 |
| ·半导体光催化技术概述 | 第8-13页 |
| ·半导体光催化材料研究 | 第8页 |
| ·半导体TiO_2光催化原理 | 第8-10页 |
| ·TiO_2形态结构的影响 | 第10-11页 |
| ·TiO_2光催化剂的负载方法 | 第11-12页 |
| ·矿物基材负载TiO_2光催化剂的研究 | 第12-13页 |
| ·蒙脱石矿物特性 | 第13-16页 |
| ·蒙脱石矿石特征 | 第13-14页 |
| ·蒙脱石矿物类别 | 第14页 |
| ·蒙脱石晶体结构特点 | 第14-15页 |
| ·蒙脱石物理化学特性 | 第15-16页 |
| ·研究意义与内容 | 第16-18页 |
| ·研究意义 | 第16页 |
| ·研究内容 | 第16-18页 |
| 第2章 试验条件与试验方法 | 第18-24页 |
| ·试验原料 | 第18页 |
| ·试验设备 | 第18-19页 |
| ·试验试剂 | 第19页 |
| ·试验过程 | 第19-23页 |
| ·蒙脱石原矿的提纯 | 第19页 |
| ·钠化改型蒙脱石的制备 | 第19-20页 |
| ·有机改性蒙脱石的制备 | 第20页 |
| ·TiO_2/蒙脱石复合光催化材料的制备 | 第20页 |
| ·掺杂金属元素复合光催化材料的制备 | 第20页 |
| ·光催化降解试验 | 第20-21页 |
| ·光催化材料活性评价 | 第21-23页 |
| ·吸附试验 | 第23页 |
| ·试验表征方法 | 第23-24页 |
| 第3章 TiO_2/钙基蒙脱石复合光催化材料制备 | 第24-46页 |
| ·矿物基材 | 第24页 |
| ·制备过程 | 第24页 |
| ·反应机理 | 第24-26页 |
| ·不同反应条件对复合材料光催化性能的影响 | 第26-33页 |
| ·矿浆浓度对光催化活性的影响 | 第26-27页 |
| ·钛土比对光催化活性的影响 | 第27-28页 |
| ·水浴温度对复合材料光催化性能的影响 | 第28-29页 |
| ·干燥温度对光催化活性的影响 | 第29-30页 |
| ·pH值对光催化活性的影响 | 第30-31页 |
| ·焙烧温度对光催化活性的影响 | 第31-32页 |
| ·正反滴加顺序对光催化活性的影响 | 第32页 |
| ·陈化时间对光催化活性的影响 | 第32-33页 |
| ·正交试验 | 第33-38页 |
| ·正交试验设计 | 第34页 |
| ·结果与讨论 | 第34-38页 |
| ·表征分析 | 第38-43页 |
| ·XRD表征分析 | 第38-39页 |
| ·FT-IR表征分析 | 第39-41页 |
| ·AFM表征分析 | 第41-43页 |
| ·SEM表征分析 | 第43页 |
| ·本章小结 | 第43-46页 |
| 第4章 TiO_2/钠基及有机蒙脱石复合光催化材料制备 | 第46-66页 |
| 4.I TiO_2/钠基蒙脱石复合光催化材料 | 第46-51页 |
| ·钠基蒙脱石的制备 | 第46-47页 |
| ·TiO_2/钠基蒙脱石复合光催化材料 | 第47-51页 |
| ·TiO_2/有机蒙脱石复合光催化材料 | 第51-54页 |
| ·有机蒙脱石的制备 | 第51-52页 |
| ·TiO_2/有机蒙脱石复合光催化材料 | 第52-54页 |
| ·表征分析 | 第54-64页 |
| ·XRD表征分析 | 第54-56页 |
| ·IR表征分析 | 第56-59页 |
| ·AFM表征分析 | 第59-63页 |
| ·SEM表征分析 | 第63-64页 |
| ·本章小结 | 第64-66页 |
| 第5章 掺杂金属修饰TiO_2/蒙脱石复合光催化材料 | 第66-81页 |
| ·金属掺杂TiO_2/蒙脱石复合光催化材料 | 第66页 |
| ·掺钴、镧TiO_2/蒙脱石复合光催化材料的制备 | 第66页 |
| ·光催化降解试验 | 第66页 |
| ·降解结果及讨论 | 第66-71页 |
| ·掺 Co~(3+)TiO_2/蒙脱石复合光催化材料 | 第66-69页 |
| ·掺 La~(3+)TiO_2/蒙脱石复合光催化材料 | 第69-71页 |
| ·表征分析 | 第71-80页 |
| ·掺杂金属元素复合材料 XRD表征 | 第71-74页 |
| ·掺杂金属元素复合材料 XPS表征 | 第74-80页 |
| ·本章小结 | 第80-81页 |
| 第6章 结论 | 第81-83页 |
| 参考文献 | 第83-86页 |
| 致谢 | 第86-87页 |
| 硕士期间发表的论文 | 第87页 |
