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脉冲激光沉积纳米氧化钛薄膜及其光催化性能的研究

提要第1-9页
第一章 绪论第9-36页
   ·纳米半导体材料概述第9-23页
     ·引言第9页
     ·纳米半导体材料的性质第9-13页
     ·纳米半导体材料的光电特性第13-16页
     ·纳米半导体材料的制备方法第16-22页
     ·纳米半导体材料的应用第22-23页
   ·半导体光催化技术概述第23-27页
     ·半导体光催化氧化反应的基础理论第23-25页
     ·半导体光催化活性的主要影响因素第25-27页
   ·TiO_2 的基本特性第27-34页
     ·TiO_2 的结构和物理特性第28-29页
     ·TiO_2 的光学性质第29页
     ·纳米TiO_2 的光催化特性第29-34页
   ·选题意义及研究内容第34-36页
第二章 实验材料设备及表征方法第36-47页
   ·实验材料第36-39页
     ·实验材料第36-38页
     ·实验材料的预处理第38-39页
   ·实验设备第39-40页
     ·薄膜沉积系统第39页
     ·光降解实验系统第39-40页
   ·实验方案第40-42页
     ·采用金属Ti 靶,在氧气气氛下制备纳米TiO_2 薄膜第40-41页
     ·退火TiO_2 薄膜得到混晶的TiO_2 薄膜第41页
     ·采用陶瓷TiO_2 靶用PLD 法制备氮掺杂的TiO_2 薄膜第41页
     ·用PLD 法制备TiO_2/ ZnO 复合薄膜第41-42页
   ·微观组织结构和光学性能的表征第42-47页
     ·X 射线衍射(X-ray Diffraction,XRD)第42-43页
     ·透射电子显微镜(Transmission electron microscopy, TEM)第43页
     ·X 射线光电子能谱(X-Ray Photoelectric Spectrum,XPS)第43页
     ·场发射扫描电子显微镜(Field Emission Scanning Electron Microscope,FE-SEM)第43-44页
     ·薄膜厚度的测量第44页
     ·紫外/可见光谱(UV/Vis Spectrum)第44页
     ·光致发光光谱(Photoluminscence Spectrum, PL)第44-45页
     ·光催化性能测试第45-47页
第三章 纳米锐钛矿型TiO_2薄膜的制备及工艺研究第47-61页
   ·引言第47页
   ·结果与讨论第47-59页
     ·TiO_2 薄膜的结构第47-55页
     ·TiO_2 薄膜的光学性能第55-59页
   ·本章小结第59-61页
第四章 混晶TiO_2薄膜的制备及光催化机理研究第61-74页
   ·引言第61-62页
   ·结果与讨论第62-73页
     ·XRD 分析第62-63页
     ·TEM 分析第63-64页
     ·XPS 分析第64-65页
     ·SEM 观察第65-67页
     ·光催化活性分析第67-69页
     ·UV/Vis 光谱分析第69-70页
     ·混晶TiO_2 薄膜的光催化机理分析第70-73页
   ·本章小结第73-74页
第五章 N 掺杂TiO_2薄膜的制备及光催化机理研究第74-92页
   ·引言第74-75页
   ·结果与讨论第75-90页
     ·氮掺杂TiO_2 薄膜的制备和光催化机理研究第75-83页
     ·N 的掺杂浓度对TiO_2?xNx 薄膜性能的影响第83-90页
   ·本章小结第90-92页
第六章 TiO_2/ZnO 纳米复合薄膜的制备及光学性质研究第92-110页
   ·引言第92-93页
   ·结果与讨论第93-108页
     ·ZnO 薄膜的制备与研究第93-103页
     ·TiO_2/ZnO 复合薄膜的制备与性质研究第103-108页
   ·本章小结第108-110页
第七章 结论第110-113页
参考文献第113-132页
攻博期间发表的学术论文第132-134页
摘要第134-138页
Abstract第138-143页
致谢第143页

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