| 中文摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-8页 |
| 第一章 文献综述 | 第8-25页 |
| ·自旋电子学 | 第8-15页 |
| ·自旋过滤理论 | 第10-14页 |
| ·自旋过滤材料 | 第14-15页 |
| ·NiFe_2O_4铁氧体的结构与性质 | 第15-24页 |
| ·NiFe_2O_4块体材料 | 第15-17页 |
| ·NiFe_2O_4纳米颗粒材料 | 第17-19页 |
| ·NiFe_2O_4薄膜 | 第19-24页 |
| ·存在的问题及本论文工作 | 第24-25页 |
| 第二章 样品制备、结构表征与物性测量 | 第25-33页 |
| ·Ni_xFe_(3–x)O_4薄膜的制备 | 第25-27页 |
| ·可调三靶磁控溅射原理 | 第25-26页 |
| ·样品的制备 | 第26-27页 |
| ·结构表征与物性测量 | 第27-33页 |
| ·表面形貌、结构与成份表征 | 第27-31页 |
| ·电输运特性测量 | 第31-32页 |
| ·磁性测量 | 第32-33页 |
| 第三章 反应共溅射Ni_xFe_(3–x)O_4多晶薄膜的结构与性质 | 第33-57页 |
| ·Ni_xFe_(3–x)O_4薄膜的成份、结构与化学价态 | 第33-41页 |
| ·Ni_xFe_(3–x)O_4薄膜的磁学性质 | 第41-45页 |
| ·Ni_xFe_(3–x)O_4薄膜的输运特性 | 第45-51页 |
| ·低Ni含量的Ni_xFe_(3–x)O_4薄膜的结构与性质 | 第51-56页 |
| ·本章小结 | 第56-57页 |
| 第四章 反应共溅射NiFe_2O_4外延薄膜的结构与性质 | 第57-79页 |
| ·导电NiFe_2O_4外延薄膜的结构、磁性与输运特性 | 第57-65页 |
| ·绝缘NiFe_2O_4外延薄膜的结构与磁学性质 | 第65-76页 |
| ·关于电阻率变化的讨论 | 第76-78页 |
| ·本章小结 | 第78-79页 |
| 第五章 结论 | 第79-80页 |
| 参考文献 | 第80-90页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第90-91页 |
| 致谢 | 第91页 |
