| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-24页 |
| ·引言 | 第10-11页 |
| ·有源光子晶体概述 | 第11-18页 |
| ·有源光子晶体波导的基本概念 | 第11-14页 |
| ·有源光子晶体波导的研究进展 | 第14-16页 |
| ·有源光子晶体波导在光子集成器件上的应用 | 第16-18页 |
| ·有源光子晶体波导研究与技术发展的若干关键问题分析 | 第18-21页 |
| ·光子晶体波导的光增益特性及其理论计算问题 | 第18-19页 |
| ·电泵有源光子晶体波导的结构设计与调控机制的开发 | 第19-20页 |
| ·有源光子晶体波导的横向载流子限制问题 | 第20页 |
| ·InP 材料“大深宽比”光子晶体小孔的ICP 刻蚀工艺的实现 | 第20-21页 |
| ·论文工作的主要内容和创新点 | 第21-24页 |
| 第2章 光子晶体波导的模式特性 | 第24-48页 |
| ·引言 | 第24页 |
| ·光子晶体波导的基本概念 | 第24-27页 |
| ·光子晶体波导的导光原理 | 第24-26页 |
| ·光子晶体波导中光波的状态密度 | 第26页 |
| ·光子晶体波导中模式的群速度-慢光效应 | 第26-27页 |
| ·光子晶体波导模式特性的仿真 | 第27-42页 |
| ·光子晶体波导模式特性的仿真方法 | 第27-31页 |
| ·W1 有源光子晶体波导的模式特性和慢光效应 | 第31-37页 |
| ·W3 有源光子晶体波导的模式特性和MSB 效应 | 第37-42页 |
| ·SOI 基光子晶体波导的制备及模式特性测试 | 第42-47页 |
| ·SOI 基光子晶体的制备和测试平台 | 第42-44页 |
| ·W1 波导模式特性的测试 | 第44-46页 |
| ·不同结构参数下的MSB 效应的测试 | 第46-47页 |
| ·本章小结 | 第47-48页 |
| 第3章 有源光子晶体波导的光增益特性 | 第48-60页 |
| ·引言 | 第48页 |
| ·有源光子晶体波导光增益研究的关键问题分析 | 第48-50页 |
| ·光子晶体波导异常色散对半导体材料光增益特性的影响 | 第50-54页 |
| ·光波状态密度对增益的影响 | 第50-51页 |
| ·群速度对增益的影响 | 第51-52页 |
| ·有源光子晶体波导光增益计算方法的修正 | 第52-54页 |
| ·有源光子晶体波导的光增益计算 | 第54-58页 |
| ·慢光增强效应下量子阱光增益的模型建立 | 第54-56页 |
| ·W1 波导和W3 波导的光增益的计算 | 第56-58页 |
| ·光子晶体波导宽度对光增益特性的影响 | 第58-59页 |
| ·本章小结 | 第59-60页 |
| 第4章 微腔-有源光子晶体波导的增益特性 | 第60-72页 |
| ·引言 | 第60页 |
| ·微腔-有源光子晶体波导的工作原理 | 第60-64页 |
| ·微腔-波导复合结构的选模特性 | 第64-70页 |
| ·微腔形状对选模特性的影响 | 第65-66页 |
| ·微腔侧壁对选模特性的影响 | 第66-69页 |
| ·微腔周期对有源光子晶体波导的调控 | 第69-70页 |
| ·微腔-波导复合结构的增益特性 | 第70-71页 |
| ·本章小结 | 第71-72页 |
| 第5章 双槽-光子晶体波导 | 第72-86页 |
| ·引言 | 第72页 |
| ·双槽-光子晶体波导的电注入特性 | 第72-77页 |
| ·载流子横向扩散的限制作用 | 第72-74页 |
| ·电注入效率 | 第74-77页 |
| ·双槽-光子晶体波导的模式特性 | 第77-80页 |
| ·双槽-光子晶体波导模式特性的实验验证 | 第80-83页 |
| ·结构设计及样品制备 | 第81页 |
| ·双槽-光子晶体波导特性测试 | 第81-83页 |
| ·双槽-光子晶体波导的折射率传感应用 | 第83-85页 |
| ·本章小结 | 第85-86页 |
| 第6章 有源光子晶体波导的ICP 干法刻蚀工艺 | 第86-104页 |
| ·引言 | 第86页 |
| ·有源光子晶体波导的ICP 干法刻蚀工艺 | 第86-97页 |
| ·有源光子晶体波导ICP 干法刻蚀工艺的难点 | 第87-89页 |
| ·ICP 干法刻蚀参数对刻蚀垂直度和光滑度的影响及参数优化 | 第89-96页 |
| ·InP 基有源光子晶体波导的大深宽比刻蚀 | 第96-97页 |
| ·有源光子晶体波导的制备 | 第97-103页 |
| ·有源光子晶体波导的制备工艺流程 | 第97-98页 |
| ·InP/InGaAsP 量子阱外延片设计 | 第98-99页 |
| ·SiO_2 硬掩膜的制备 | 第99-102页 |
| ·InP 基有源光子晶体波导的电极工艺 | 第102-103页 |
| ·本章小结 | 第103-104页 |
| 结束语 | 第104-106页 |
| 参考文献 | 第106-113页 |
| 致谢 | 第113-114页 |
| 个人简历、在学期间发表的学术论文与研究成果 | 第114-115页 |
