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衍射度量术在光栅形貌测量与小阶梯光栅制作中的应用

摘要第1-5页
Abstract第5-11页
第1章 绪论第11-33页
   ·课题背景第11-20页
     ·衍射度量术的产生与发展第11-14页
     ·本文中所研究的亚微米周期浮雕型光栅第14-20页
   ·衍射度量术的国内外研究现状及关键问题第20-29页
     ·衍射度量术的理论研究第20-26页
     ·衍射度量术的实验方法第26-29页
     ·衍射度量术的发展趋势与现存问题第29页
   ·本课题的研究意义和研究内容第29-31页
     ·课题的选取及研究意义第29-30页
     ·课题的研究内容第30-31页
   ·论文的结构安排第31-32页
 本章小结第32-33页
第2章 利用衍射度量术与ANN 离线测量浮雕型光栅形貌参数第33-62页
   ·引言第33-35页
     ·背景介绍第33-34页
     ·基本原理第34-35页
   ·傅立叶模态法简介第35-41页
     ·均匀媒质中光场的表达式第36页
     ·光栅区域中光场的表达式第36-38页
     ·傅立叶因式分解与数值截断第38页
     ·边界条件与散射矩阵第38-41页
   ·BP-ANN 算法简介第41-47页
     ·ANN 的基本原理第41-43页
     ·BP-ANN 的设计和训练第43-45页
     ·L-M 算法介绍第45-47页
   ·铬膜上驻波形掩模光栅的无损测量第47-61页
     ·光栅参数与浮雕形貌的几何建模第47-49页
     ·检测对象与入射条件的选择第49-51页
     ·BP-ANN 的训练第51-52页
     ·实验装置与参数第52-55页
     ·理论预测与实验结果第55-57页
     ·误差分析与讨论第57-61页
 本章小结第61-62页
第3章 小阶梯光栅的制作工艺第62-93页
   ·背景介绍第62-67页
     ·小阶梯闪耀光栅的参数设计与制作要求第62-64页
     ·全息法制作小阶梯光栅工艺简介第64-66页
     ·离子束刻蚀工艺的基本原理第66-67页
   ·刻蚀模型第67-72页
     ·刻蚀过程的简化描述第67-68页
     ·掩模高度、宽度对刻蚀后光栅槽形的影响第68-70页
     ·刻蚀时间对光栅槽型的影响第70-72页
   ·工艺步骤第72-84页
     ·简介第72-73页
     ·基片清洁第73-74页
     ·匀胶第74-76页
     ·曝光第76-77页
     ·显影第77-78页
     ·刻蚀预处理第78-79页
     ·离子束刻蚀第79-84页
   ·工艺实验和光学检测结果第84-91页
     ·微观形貌第84-87页
     ·光谱仪器上的检测结果第87-89页
     ·光栅的衍射谱线第89-91页
 本章小结第91-93页
第4章 矩形光刻胶掩模光栅显影过程中的实时监测第93-109页
   ·引言第93-94页
   ·方法原理第94-98页
     ·基本前提假设第94-97页
     ·0 级衍射光监测的提出第97-98页
   ·实验方案第98-100页
     ·实验装置与参数第98页
     ·数据与信号处理第98-100页
   ·实验结果第100-107页
     ·结果展示第100-102页
     ·误差分析与讨论第102-107页
 本章小结第107-109页
第5章 透明基底上矩形掩模光栅形貌参数的无损检测第109-116页
   ·背景第109-110页
   ·方法原理第110-112页
   ·实验结果第112-113页
   ·误差分析与讨论第113-114页
 本章小结第114-116页
第6章 离子束刻蚀小阶梯介质光栅的终点监测方法第116-134页
   ·引言第116-117页
   ·方法原理第117-120页
     ·监测光路的设计第117-118页
     ·监测曲线的理论模拟第118-119页
     ·监测光束入射条件的选择第119-120页
   ·实验结果与讨论第120-132页
     ·实验曲线分析第120-125页
     ·监测方法的适用范围第125-132页
 本章小结第132-134页
第7章 总结与展望第134-137页
   ·论文工作总结第134-135页
   ·展望第135-137页
参考文献第137-143页
致谢第143-144页
个人简历、在学期间发表的学术论文与研究成果第144页

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